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1. WO2011077662 - 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法

公開番号 WO/2011/077662
公開日 30.06.2011
国際出願番号 PCT/JP2010/007247
国際出願日 14.12.2010
IPC
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
CPC
C23C 14/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
08Oxides
C23C 14/081
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
08Oxides
081of aluminium, magnesium or beryllium
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
出願人
  • 株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 飯島 栄一 IIJIMA, Eiichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 中村 久三 NAKAMURA, Kyuzo [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 箱守 宗人 HAKOMORI, Muneto [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 飯島 栄一 IIJIMA, Eiichi
  • 中村 久三 NAKAMURA, Kyuzo
  • 箱守 宗人 HAKOMORI, Muneto
代理人
  • 大森 純一 OMORI, Junichi
優先権情報
2009-28888321.12.2009JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREFOR
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT SOUS VIDE ET PROCÉDÉ D'ENTRETIEN ASSOCIÉ
(JA) 真空蒸着装置及びそのメンテナンス方法
要約
(EN)
Disclosed is a vacuum deposition apparatus which can separate an evaporation source from the atmosphere, while suppressing complication of the configuration of the apparatus and a size increase of the apparatus. The vacuum deposition apparatus is provided with a deposition chamber (13), which is subjected to vacuum, and an evaporation source unit (50). The evaporation source unit (50) has the evaporation source (51), a container (52), and seal mechanisms (53a, 53b), and is disposed in the deposition chamber (13). The evaporation source (51) generates vapor of an evaporation material (100). The container (52) forms a containing chamber (521) which contains the evaporation source (51), and the container has openings (522a, 522b), through which the vapor of the evaporation material (100) is supplied from the containing chamber (521) to the deposition chamber (13). The seal mechanisms (53a, 53b) are disposed on the container (52), and are configured such that the seal mechanisms can hermetically close the openings (522a, 522b).
(FR)
La présente invention concerne un appareil de dépôt sous vide qui peut séparer une source d'évaporation de l'atmosphère et permet de simplifier la configuration de l'appareil sans augmenter sa taille. L'appareil de dépôt sous vide comprend une chambre de dépôt (13) qui est soumise au vide, ainsi qu'une unité de source d'évaporation (50). L'unité de source d'évaporation (50) comporte la source d'évaporation (51), une enveloppe (52) et des mécanismes d'étanchéité (53a, 53b). Elle est située dans la chambre de dépôt (13). La source d'évaporation (51) produit de la vapeur à partir d'un matériau d'évaporation (100). L'enveloppe (52) forme une chambre de confinement (521) qui confine la source d'évaporation (51). L'enveloppe comporte des ouvertures (522a, 522b) par lesquelles la vapeur du matériau d'évaporation (100) passe de la chambre de confinement (521) à la chambre de dépôt (13). Les mécanismes d'étanchéité (53a, 53b) sont situés sur l'enveloppe (52) et sont configurés de manière à pouvoir fermer hermétiquement les ouvertures (522a, 522b).
(JA)
【課題】装置構成の複雑化、大型化を抑制しつつ、蒸発源を大気から分離することができる真空蒸着装置を提供する。 【解決手段】本発明の一実施形態に係る真空蒸着装置は、真空排気可能な蒸着室13と、蒸発源ユニット50とを具備する。蒸発源ユニット50は、蒸発源51と、容器52と、シール機構53a、53bとを有し、蒸着室13に配置される。蒸発源51は、蒸発材料100の蒸気を発生させる。容器52は、蒸発源51を収容する収容室521を形成し、収容室521から蒸着室13へ蒸発材料100の蒸気を供給する開口522a、522bを有する。シール機構53a、53bは、容器52に設置され、開口522a、522bを気密に閉止することが可能に構成されている。
他の公開
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