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1. WO2011070960 - 可撓性基板の搬送装置

公開番号 WO/2011/070960
公開日 16.06.2011
国際出願番号 PCT/JP2010/071551
国際出願日 02.12.2010
IPC
B65H 23/038 2006.01
B処理操作;運輸
65運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
H薄板状または線条材料,例.シート,ウェブ,ケーブル,の取扱い
23ウエブの整合,緊張,平滑または案内
02横方向のもの
032ウエブの横方向整合制御
038ローラによるもの
H01L 31/04 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04光起電変換装置として使用されるもの
CPC
B65H 20/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
20Advancing webs
02by friction roller
B65H 2301/323
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
2301Handling processes for sheets or webs
30Orientation, displacement, position of the handled material
32Orientation of handled material
323Hanging
B65H 2801/87
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
2801Application field
87Photovoltaic element manufacture, e.g. solar panels
H01L 21/67706
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
67703between different workstations
67706Mechanical details, e.g. roller, belt
H01L 21/67721
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
67703between different workstations
67721the substrates to be conveyed not being semiconductor wafers or large planar substrates, e.g. chips, lead frames
H01L 31/206
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
18Processes or apparatus peculiar to the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
20such devices or parts thereof comprising amorphous semiconductor materials
206Particular processes or apparatus for continuous treatment of the devices, e.g. roll-to roll processes, multi-chamber deposition
出願人
  • 富士電機ホールディングス株式会社 Fuji Electric Holdings Co., Ltd. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 西澤 正紀 NISHIZAWA, Masanori [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 横山 勝治 YOKOYAMA, Shoji [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 山田 隆典 YAMADA, Takanori [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 西澤 正紀 NISHIZAWA, Masanori
  • 横山 勝治 YOKOYAMA, Shoji
  • 山田 隆典 YAMADA, Takanori
代理人
  • 奥山 尚一 OKUYAMA, Shoichi
優先権情報
2009-28198911.12.2009JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) APPARATUS FOR TRANSFERRING FLEXIBLE SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DESTINÉ AU TRANSFERT DE SUBSTRAT SOUPLE
(JA) 可撓性基板の搬送装置
要約
(EN)
Disclosed is a transfer apparatus (100) which transfers a flexible substrate (1) in the substrate longitudinal direction by having the flexible substrate in an upright possture. A holding apparatus (21) is provided with a pair of grip rollers (23, 24) which sandwich the upper end portion of the substrate (1). A first drive means (60) adjusts the pressure-contact force of the rollers (23, 24). A second drive means (80) adjusts the tilt angles of the rollers (23, 24) with respect to the transfer direction of the substrate (1). The position of the substrate (1) in the vertical direction is constantly maintained with the adjustments. The holding apparatus (21) is provided with another pair of rollers that sandwich the lower end portion of the substrate (1). In a film-forming chamber (40), a thin film is formed on the substrate (1). The holding apparatus (21) is disposed between adjacent film-forming chambers (40). The substrate (1) may be a plastic film. In the film-forming chamber (40), chemical vapor deposition or physical vapor deposition may be performed. The substrate (1) may be a substrate for a solar cell.
(FR)
L'invention concerne un appareil de transfert (100) qui transfère un substrat souple (1) dans une direction longitudinale de substrat par placement du substrat souple en position verticale. Un appareil de retenue (21) est doté d'une paire de rouleaux de préhension (23, 24) qui intercalent la partie d'extrémité supérieure du substrat (1). Un premier moyen d'entraînement (60) ajuste la force de contact par pression des rouleaux (23, 24). Un second moyen d'entraînement (80) ajuste les angles d'inclinaison des rouleaux (23, 24) relativement à la direction de transfert du substrat (1). La position du substrat (1) dans la direction verticale est constamment maintenue à l'aide des ajustements. L'appareil de retenue (21) est doté d'une autre paire de rouleaux qui intercalent la partie d'extrémité inférieure du substrat (1). Dans une chambre filmogène (40), un film mince est formé sur le substrat (1). L'appareil de retenue (21) est disposé entre des chambres filmogènes (40) adjacentes. Le substrat (1) peut être un film en matière plastique. Dans la chambre filmogène (40), un dépôt chimique en phase vapeur ou un dépôt physique en phase vapeur peuvent être effectués. Le substrat (1) peut être un substrat destiné à une photopile.
(JA)
搬送装置( 1 0 0 ) は、可撓性基板( 1 ) を垂直姿勢で基板長手方向に搬送する。保持装置( 2 1 ) は、基板( 1 ) の上側端部を挟持する一対のグリップローラ( 2 3 , 2 4 ) を備える。第1 の駆動手段( 6 0 ) は、ローラ( 2 3 , 2 4 ) の圧接力を調節する。第2 の駆動手段( 8 0 ) は、基板( 1 ) の搬送方向に対するローラ( 2 3 , 2 4 ) の傾斜角度を調節する。これらの調節により、基板( 1 ) の垂直方向の位置が一定に維持される。 保持装置( 2 1 ) は、基板( 1 ) の下側端部を挟持する別の一対のローラを備える。成膜室( 4 0 ) の中で、基板( 1 ) はその上に薄膜が積層される。保持装置( 2 1 ) は、隣接する成膜室( 4 0 ) の間に配置される。基板( 1 ) はプラスチックフィルムであり得る。成膜室( 4 0 ) の中では、化学蒸着又は物理蒸着が行われ得る。基板( 1 ) は太陽電池の基板であり得る。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報