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1. WO2011070947 - 感放射線性樹脂組成物、重合体、単量体及び感放射線性樹脂組成物の製造方法

公開番号 WO/2011/070947
公開日 16.06.2011
国際出願番号 PCT/JP2010/071398
国際出願日 30.11.2010
IPC
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
C08F 12/30 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
12ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体
021個の不飽和脂肪族基を含有する単量体
041個の環を含有するもの
14異種原子または異種原子含有基で置換されたもの
30いおう
C08F 20/38 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
38いおうを含有するエステル
C08F 20/58 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
52アミドまたはイミド
54アミド
58カルボンアミド酸素以外に酸素を含有するもの
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
CPC
C08F 12/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
12Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
04containing one ring
14substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
16Halogens
20Fluorine
C08F 12/22
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
12Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
04containing one ring
14substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
22Oxygen
C08F 12/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
12Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
04containing one ring
14substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
22Oxygen
24Phenols or alcohols
C08F 12/30
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
12Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
04containing one ring
14substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
30Sulfur
C08F 12/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
12Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
02Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
32containing two or more rings
C08F 220/38
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
220Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
10Esters
38Esters containing sulfur
出願人
  • JSR株式会社 JSR Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 丸山 研 MARUYAMA Ken [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 丸山 研 MARUYAMA Ken
代理人
  • 小島 清路 KOJIMA Seiji
優先権情報
2009-27898508.12.2009JP
2010-05503911.03.2010JP
2010-13046307.06.2010JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYMER, MONOMER AND METHOD FOR PRODUCING RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, POLYMÈRE, MONOMÈRE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UNE TELLE COMPOSITION
(JA) 感放射線性樹脂組成物、重合体、単量体及び感放射線性樹脂組成物の製造方法
要約
(EN)
Disclosed are: a radiation-sensitive composition which is capable of providing a chemically amplified resist film that is effectively sensitive to electron beams or extreme ultraviolet light, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and is capable of stably and highly accurately forming a fine pattern; a novel sulfonic acid salt-containing polymer which is used for the composition; a novel monomer that is used for the polymer; and a method for producing a radiation-sensitive resin composition. Specifically disclosed is a radiation-sensitive resin composition which contains a solvent and a polymer that has a repeating unit represented by formula (I) and/or a repeating unit represented by formula (II).
(FR)
La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement qui est capable de donner un film de réserve à amplification chimique qui est efficacement sensible à des faisceaux électroniques ou à la lumière ultraviolette extrême, présente une excellente rugosité de bord nanométrique, une excellente sensibilité et une excellente résolution, et est capable de former de façon stable et très précise un motif fin ; un nouveau polymère contenant du sel d'acide sulfonique qui est utilisé pour la composition ; un nouveau monomère qui est utilisé pour le polymère ; et un procédé permettant de produire une composition de résine sensible au rayonnement. L'invention concerne en particulier une composition de résine sensible au rayonnement qui contient un solvant et un polymère possédant un motif récurrent représenté par la formule (I) et/ou un motif récurrent représenté par la formule (II).
(JA)
 本発明の目的は、電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物、その組成物に用いられる新規なスルホン酸塩含有重合体、その重合体に用いられる新規単量体、及び感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。本発明の感放射線性樹脂組成物は、下式(I)及び(II)で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方を有する重合体と、溶剤と、を含有する。
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