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1. (WO2011049216) 炭化ケイ素研磨用組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/049216    国際出願番号:    PCT/JP2010/068765
国際公開日: 28.04.2011 国際出願日: 22.10.2010
IPC:
B24B 37/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: Nitta Haas Incorporated [JP/JP]; 4-4-26, Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi, Osaka 5560022 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NITTA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NITTA, Hiroshi; (JP)
代理人: SAIKYO, Keiichiro; Shikishima Building, 2-6, Bingomachi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410051 (JP)
優先権情報:
2009-244968 23.10.2009 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR POLISHING SILICON CARBIDE
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE DE CARBURE DE SILICIUM
(JA) 炭化ケイ素研磨用組成物
要約: front page image
(EN)Provided is a composition for polishing silicon carbide with which it is possible to improve the speed at which an SiC crystal substrate is polished. The composition for polishing silicon carbide comprises abrasive grains, a peroxide as an oxidizer, and a chelator. As a result, it is possible to increase the speed at which a silicon carbide crystal substrate, particularly the (0001) Si face, is polished. 
(FR)L'invention concerne une composition de polissage de carbure de silicium avec laquelle il est possible d'améliorer la vitesse à laquelle un substrat cristallin de SiC est poli. La composition de polissage de carbure de silicium comprend des grains abrasifs, un peroxyde comme oxydant et un chélateur. Il est ainsi possible d'augmenter la vitesse à laquelle un substrat cristallin de carbure de silicium, en particulier la face Si (0001), est poli.
(JA) 本発明の目的は、SiC結晶基板の研磨速度を向上することができる炭化ケイ素研磨用組成物を提供することである。 本発明の炭化ケイ素研磨用組成物は、砥粒と、過酸化物である酸化剤と、キレート剤とを含むことを特徴とし、これらを含むことで、炭化ケイ素結晶基板の、特に(0001)Si面の研磨速度を向上することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)