WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2011048937) 銅系ナノ粒子高濃度分散液を用いた導体膜とその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/048937    国際出願番号:    PCT/JP2010/067389
国際公開日: 28.04.2011 国際出願日: 04.10.2010
予備審査請求日:    23.03.2011    
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H05K 1/09 (2006.01), H05K 3/12 (2006.01)
出願人: Kyoto University [JP/JP]; 36-1, Yoshida-Honmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6068501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUKUDA METAL FOIL & POWDER CO., LTD. [JP/JP]; 176, Nakanono-cho, Matsubara-dori Muromachi Nishi-iru, Shimogyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6008435 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWASAKI, Mitsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WADA, Masashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUGIMOTO, Nobuyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAJITA, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAWASAKI, Mitsuo; (JP).
WADA, Masashi; (JP).
SUGIMOTO, Nobuyuki; (JP).
KAJITA, Osamu; (JP)
代理人: MORIWAKI, Masashi; Hase-building No.5 637, Suiginya-cho, Karasumadori Shijyosagaru Shimogyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6008411 (JP)
優先権情報:
2009-244308 23.10.2009 JP
発明の名称: (EN) CONDUCTIVE FILM USING HIGH CONCENTRATION DISPERSION OF COPPER-BASED NANOPARTICLES, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) FILM CONDUCTEUR UTILISANT UNE DISPERSION À CONCENTRATION ÉLEVÉE DE NANOPARTICULES À BASE DE CUIVRE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CE FILM
(JA) 銅系ナノ粒子高濃度分散液を用いた導体膜とその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed are: a conductive film having low resistivity, which is obtained through a low temperature treatment in a short time; and a method for producing the conductive film. Specifically disclosed is a method for producing a conductive film, which comprises: a step Sa1 in which a high concentration dispersion of copper-based nanoparticles that are mainly composed of Cu2O is prepared; a step Sa2 in which the high concentration dispersion is applied over a base and dried thereon, thereby obtaining a coating film that is mainly composed of Cu2O; a step Sa3-1 in which the coating film is heated at a temperature of not more than 200°C at atmospheric pressure; and a step Sa3-2 in which the coating film is heated at a temperature of not more than 250°C in a reducing atmosphere.
(FR)L'invention concerne : un film conducteur ayant une faible résistivité, qui est obtenu par un traitement à basse température de courte durée ; et un procédé de fabrication du film conducteur. Spécifiquement, l'invention concerne un procédé de fabrication d'un film conducteur qui comprend : une étape Sa1 au cours de laquelle une dispersion à concentration élevée de nanoparticules à base de cuivre qui sont principalement composées de cuivre est préparée ; une étape Sa2 au cours de laquelle la dispersion à concentration élevée est appliquée sur une base et séchée sur celle-ci, obtenant de ce fait un film de revêtement qui est principalement composé de Cu2O ; une étape Sa3-1 au cours de laquelle le film de revêtement est chauffé à une température inférieure ou égale à 200 °C à la pression atmosphérique ; et une étape Sa3-2 au cours de laquelle le film de revêtement est chauffé à une température inférieure ou égale à 250 °C dans une atmosphère de réduction.
(JA)【課題】 短時間かつ低温処理によって低抵抗な導体膜とその製造方法を提供する。 【解決手段】CuOを主成分とする銅系ナノ粒子の高濃度分散液を調製するステップSa1と、 前記高濃度分散液を基材上に塗布及び乾燥してCuOを主成分とする塗膜を得るステップSa2と、 大気圧中で前記塗膜を200℃以下の温度で加熱するステップSa3-1と、 還元性雰囲気中で前記塗膜を250℃以下の温度で加熱するステップSa3-2と を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)