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1. (WO2011048746) 磁気転写用原盤の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/048746    国際出願番号:    PCT/JP2010/005618
国際公開日: 28.04.2011 国際出願日: 15.09.2010
IPC:
G11B 5/86 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAMOTO, Tadashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OHNO, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IKEDA, Shoji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAMOTO, Tadashi; (JP).
OHNO, Hideo; (JP).
IKEDA, Shoji; (JP)
代理人: OMORI, Junichi; 2nd Floor U&M Akasaka Bldg., 7-5-47 Akasaka, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
2009-244090 23.10.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MASTER DISK FOR MAGNETIC TRANSFER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISQUE MATRICE APPLIQUÉ AU TRANSFERT MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気転写用原盤の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a master disk for magnetic transfer, which is capable of forming a magnetic layer pattern with high accuracy. Specifically provided is a method for manufacturing a master disk for magnetic transfer, said method comprising a step for forming, as a magnetic transfer layer, a magnetic layer (12) produced from a FeCo alloy on a substrate (11), a step for forming a mask pattern (13P) on the magnetic layer (12), and a step for etching the magnetic layer (12) via the mask pattern (13P) by maintaining the substrate at a temperature of 100°C or more and forming chlorine-based gas plasma. Consequently, the etching characteristics of the magnetic transfer layer are improved, and the magnetic transfer layer can be accurately patterned.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un disque matrice appliqué au transfert magnétique permettant la formation d'un motif de couche magnétique avec grande précision. L'invention concerne plus particulièrement un procédé de fabrication d'un disque matrice appliqué au transfert magnétique, le procédé comprenant une étape consistant à former une couche magnétique (12) sur un substrat (11) à partir d'un alliage FeCo pour produire une couche de transfert magnétique ; une étape consistant à former un motif de masque (13P) sur la couche magnétique (12) ; et une étape consistant à graver la couche magnétique (12) au moyen du motif de masque (13P) en maintenant le substrat à une température supérieure ou égale à 100°C et en utilisant un plasma à base de chlore. L'invention permet d'améliorer les caractéristiques de gravure de la couche de transfert magnétique et d'y graver des motifs avec grande précision.
(JA)【課題】磁性層パターンを高精度に形成することが可能な磁気転写用原盤の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気転写用原盤の製造方法は、基板11上に、FeCo合金からなる磁性層12を磁気転写層として形成する工程と、磁性層12の上に、マスクパターン13Pを形成する工程と、上記基板を100℃以上の温度に保持し、塩素系ガスのプラズマを形成することで、磁性層12をマスクパターン13Pを介してエッチングする工程とを含む。これにより、磁気転写層のエッチング性が高まり、磁気転写層を精度よくパターニングすることが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)