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1. (WO2011046230) 感放射線性樹脂組成物および層間絶縁膜の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/046230    国際出願番号:    PCT/JP2010/068533
国際公開日: 21.04.2011 国際出願日: 14.10.2010
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/023 (2006.01)
出願人: SHARP CORPORATION [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, OSAKA 545-0013 (JP) (米国を除く全ての指定国).
JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome, Minato-ku, TOKYO 105-0021 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIKUCHI Katsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
USUI Kentaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIBASAKI Masakazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OCHI Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATO Tatsuro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HAMADA Kenichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ARAI Masashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MURATA Megumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKASE Hideaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIKUCHI Katsuhiro; (JP).
USUI Kentaro; (JP).
SHIBASAKI Masakazu; (JP).
OCHI Takashi; (JP).
KATO Tatsuro; (JP).
HAMADA Kenichi; (JP).
ARAI Masashi; (JP).
MURATA Megumi; (JP).
TAKASE Hideaki; (JP)
代理人: OHSHIMA Masataka; OHSHIMA PATENT OFFICE, BN Gyoen Buidling, 17-11, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
優先権情報:
2009-239423 16.10.2009 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING INTERLAYER DIELECTRIC
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN DIÉLECTRIQUE INTERCOUCHES
(JA) 感放射線性樹脂組成物および層間絶縁膜の形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a radiation-sensitive resin composition which comprises an alkali-soluble resin [A], a 1,2-quinonediazide compound [B], and a radical scavenger [C]. The radiation-sensitive resin composition satisfies the various performances generally required of interlayer dielectrics, such as high light transmission, and can give a high-resolution interlayer dielectric having excellent properties concerning dimensional stability to heat, resistance to thermal discoloration, adhesion to the substrate, etc., which have come to be required as a result of an increase in process efficiency for improving product yield. The composition further has excellent storage stability.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui comprend une résine soluble dans un alcali [A], un composé 1,2-quinonediazide [B] et un piégeur de radicaux libres [C]. La composition de résine sensible au rayonnement satisfait aux diverses performances généralement demandées aux diélectriques intercouches, telles qu'une transmission de lumière élevée, et peut donner un diélectrique intercouches haute résolution possédant d'excellentes propriétés relatives à la stabilité dimensionnelle à la chaleur, la résistance à la décoloration thermique, l'adhérence au substrat, etc., qui sont désormais exigées en résultat à une augmentation de l'efficacité de traitement pour améliorer le rendement du produit. La composition présente en outre une excellente stabilité au stockage.
(JA)本発明は、[A]アルカリ可溶性樹脂、[B]1,2−キノンジアジド化合物および[C]ラジカル捕捉剤を含有する感放射線性樹脂組成物に関する。上記の感放射線性樹脂組成物は、光線透過率が高いこと等の層間絶縁膜として通常要求される諸性能を充足し、且つ製品の歩留まり向上のためのプロセスの効率化に伴う耐熱寸法安定性、耐熱変色性、基板との密着性等に優れる層間絶縁膜を高い解像度で与えることができるとともに、保存安定性にも優れる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)