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1. (WO2011046115) 光導波路基板及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/046115    国際出願番号:    PCT/JP2010/067869
国際公開日: 21.04.2011 国際出願日: 12.10.2010
IPC:
G02B 6/13 (2006.01), G02B 6/122 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01), H05K 1/02 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishishinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KURODA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAI, Daichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAGI, Shigeyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIBATA, Tomoaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KURODA, Toshihiro; (JP).
SAKAI, Daichi; (JP).
YAGI, Shigeyuki; (JP).
SHIBATA, Tomoaki; (JP)
代理人: OHTANI, Tamotsu; OHTANI PATENT OFFICE, Bridgestone Toranomon Bldg. 6F., 25-2, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2009-236356 13.10.2009 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL WAVEGUIDE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 光導波路基板及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing an optical waveguide substrate, which is provided with a core (12) and clads (11, 13), and which has an optical axis conversion mirror (14) on the core, and a recessed section for aligning the optical axis conversion mirror and a light receiving/emitting element with each other. In the method for manufacturing the optical waveguide substrate, at least the profile of the core is obtained by synthesizing an image, which is obtained by focusing the focal point of a microscope (20) on the highest position (14a) of the core in the optical axis conversion mirror section, and an image, which is obtained by focusing the focal point of the microscope to the lowest position (14d) of the core, the position of the recessed section for alignment is determined on the basis of the gravity center position of the profile, and the recessed section is obtained. The optical waveguide substrate obtained by means of such manufacturing method is also disclosed. Thus, the optical axis conversion mirror in the optical waveguide substrate and the light receiving/emitting element are aligned with each other with an extremely high accuracy.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat guide d'ondes optique, qui est doté d'une âme (12) et de gaines (11, 13), et qui a un miroir de conversion d'axe optique (14) sur l'âme, et une section évidée pour aligner l'un avec l'autre le miroir de conversion d'axe optique et un élément d'émission/réception de lumière. Dans le procédé de fabrication du substrat guide d'ondes optique, au moins le profil de l'âme est obtenu par synthèse d'une image, qui est obtenue par focalisation du point focal d'un microscope (20) sur la position la plus haute (14a) de l'âme dans la section du miroir de conversion d'axe optique, et une image, qui est obtenue par focalisation du point focal du microscope à la position la plus basse (14d) de l'âme, la position de la section évidée pour l'alignement étant déterminée sur la base de la position du centre de gravité du profil, et la section évidée est obtenue. L'invention concerne également le substrat guide d'ondes optique obtenu au moyen d'un tel procédé de fabrication. Ainsi, le miroir de conversion d'axe optique dans le substrat guide d'ondes optique et l'élément de réception/émission de la lumière sont alignés l'un par rapport à l'autre avec une précision extrêmement élevée.
(JA) コア(12)とクラッド(11),(13)を備え、該コアに光軸変換ミラー(14)を有し、該光軸変換ミラーと光受発光素子との位置合わせ用凹部を有する光導波路基板の製造方法であって、少なくとも、光軸変換ミラー部におけるコアの最も高い位置(14a)に顕微鏡(20)の焦点を合わせて得た画像と最も低い位置(14d)に顕微鏡の焦点を合わせて得た画像を合成 してコアの輪郭を得、該輪郭の重心位置から位置合わせ用凹部の位置を決定し、該凹部を得ることを特徴とする光導波路基板の製造方法及び該製造方法により得られた光導波路基板により、光導波路基板の光軸変換ミラーと光受発光素子との位置合わせが、極めて精度よくなされている光導波路基板及びその製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)