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1. (WO2011046050) 透明導電性フィルムの製造装置及び製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/046050    国際出願番号:    PCT/JP2010/067524
国際公開日: 21.04.2011 国際出願日: 06.10.2010
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01)
出願人: TOYO BOSEKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 2-8, Dojimahama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MURAKAMI, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OYA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MURAKAMI, Hideo; (JP).
OYA, Toshiyuki; (JP)
代理人: KAZAHAYA, Nobuaki; Shin-Ei Building 6th Fl., 6-20, Tosabori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500001 (JP)
優先権情報:
2009-239106 16.10.2009 JP
発明の名称: (EN) MANUFACTURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
(JA) 透明導電性フィルムの製造装置及び製造方法
要約: front page image
(EN)In order to manufacture a transparent conductive film suitable for a resistive touch panel or a capacitive touch panel stably with good productivity, disclosed is a manufacturing device for a transparent conductive film formed by stacking a first transparent layer, a second transparent layer, and a transparent conductive layer on a transparent plastic film, and said manufacturing device is provided with a film wind-off chamber, a degassing chamber, a first buffer chamber, a first deposition chamber for depositing the first transparent layer and the second transparent layer, a second deposition chamber for depositing the second transparent layer and the transparent conductive layer, a second buffer chamber, and a film wind-up chamber, measures the spectral transmissivity or spectral reflectivity of the plastic film on which the deposition has been performed, and controls the plasma emission intensity or discharge voltage during sputtering for forming the second transparent layer such that the difference between the value of the measured spectral transmissivity or spectral reflectivity and the preset target value thereof becomes smaller.
(FR)L'invention vise à fabriquer un film conducteur transparent approprié pour un panneau tactile résistif ou un panneau tactile capacitif de façon stable avec une bonne productivité. A cet effet, l'invention porte sur un dispositif de fabrication pour un film conducteur transparent formé par empilement d'une première couche transparente, d'une deuxième couche transparente et d'une couche conductrice transparente sur un film en matière plastique transparent, ledit dispositif de fabrication comporte une chambre de déroulement de film, une chambre de dégazage, une première chambre tampon, une première chambre de déposition pour déposer la première couche transparente et la deuxième couche transparente, une deuxième chambre de déposition pour déposer la deuxième couche transparente et la couche conductrice transparente, une deuxième chambre tampon, et une chambre d'enroulement de film, mesure le facteur de transmission spectral ou le facteur de réflexion spectral du film en matière plastique sur lequel la déposition a été effectuée, et commande la tension de décharge ou l'intensité d'émission de plasma durant une pulvérisation cathodique pour former la deuxième couche transparente, de telle sorte que la différence entre la valeur du facteur de transmission spectral ou du facteur de réflexion spectral mesuré et la valeur cible prédéfinie de ceux-ci devient plus petite.
(JA) 抵抗膜式タッチパネル用または静電容量式タッチパネル用に好適な透明導電性フィルムを生産性良く、安定的に製造する。透明プラスチックフィルム上に、第1透明層、第2透明層、および透明導電性層を積層した透明導電性フィルムの製造装置であって、フィルム巻き出し室と、脱ガス室と、第1のバッファ室と、第1透明層と第2透明層を成膜するための第1の成膜室と、第2透明層と透明導電性層を成膜するための第2の成膜室と、第2のバッファ室と、フィルム巻き取り室とを備え、成膜されたプラスチックフィルムの分光透過率または分光反射率を測定し、さらに、測定された分光透過率または分光反射率の値と予め設定されたそれらの目標値の差が小さくなるように、第2透明層を形成するためのスパッタリング時のプラズマ発光強度または放電電圧を制御する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)