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1. (WO2011043490) 真空加熱冷却装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/043490    国際出願番号:    PCT/JP2010/067873
国際公開日: 14.04.2011 国際出願日: 12.10.2010
IPC:
H01L 21/26 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
出願人: CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1,Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUNEKAWA Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAGAMINE Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI Naoyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKADA Takuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
INABA Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TSUNEKAWA Koji; (JP).
NAGAMINE Yoshinori; (JP).
SUZUKI Naoyuki; (JP).
OKADA Takuji; (JP).
INABA Shinichi; (JP)
代理人: OKABE Yuzuru; No.602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2009-234927 09.10.2009 JP
発明の名称: (EN) VACUUM HEATING/COOLING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CHAUFFAGE/REFROIDISSEMENT À VIDE
(JA) 真空加熱冷却装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a vacuum heating/cooling device which is capable of rapidly heating and rapidly cooling a substrate exclusively, whilst preserving a high degree of vacuum subsequent to film-forming processing, and which suppresses increases in temperature over time caused by the retention of heat by the members within the chamber, and reduces temperature variation between substrates. The disclosed vacuum heating/cooling device which heats/cools a substrate in a vacuum is provided with: a vacuum chamber; a radiant energy source which is disposed on the atmosphere side of the vacuum chamber and which radiates heating light; an light entry section through which the heating light from the radiant energy source enters into the vacuum chamber; and a substrate movement mechanism, which is provided with a substrate holding member for holding a substrate, and which moves the substrate held by the substrate holding member to a heating position close to the radiant energy source during heating, and moves the substrate and the substrate holding member to a non-heating position remote from the radiant energy source during non-heating periods. The substrate holding member is plate shaped so that the substrate can be mounted thereon, and has an external form which is larger than the external form of the light entry section through which heating light enters.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de chauffage/refroidissement à vide, qui est apte à chauffer rapidement et à refroidir rapidement de façon exclusive un substrat, tout en préservant un degré de vide élevé après un traitement de formation de film, et qui supprime des augmentations de température successives provoquées par le stockage de chaleur d'éléments à l'intérieur d'une chambre, et qui réduit une variation de température entre des substrats. Le dispositif de chauffage/refroidissement à vide décrit, qui chauffe/refroidit un substrat dans un vide, comporte : une chambre à vide ; une source d'énergie rayonnante qui est disposée sur le côté atmosphère de la chambre à vide et qui rayonne une lumière de chauffage ; une unité d'incidence pour permettre à la lumière de chauffage venant de la source d'énergie rayonnante d'entrer dans la chambre à vide ; et un mécanisme de déplacement de substrat, qui comporte et qui supporte un élément de support sur le substrat, pour supporter le substrat, et qui déplace le substrat vers une position de chauffage proche de la source d'énergie rayonnante durant le chauffage, et qui déplace le substrat et l'élément de support de substrat vers une position de non-chauffage éloignée de la source d'énergie rayonnante durant des périodes de non-chauffage. L'élément de support de substrat est en forme de plaque, de telle sorte que le substrat peut être monté sur celui-ci et a une forme externe qui est plus grande que la forme externe de l'unité d'incidence, afin de permettre à de la lumière de chauffage d'entrer.
(JA)本発明は、成膜処理後に高い真空度を維持したまま基板のみを急速に加熱し、かつ急速に冷却することが可能な真空加熱冷却装置において、チャンバー内部材の蓄熱による経時温度上昇を抑制し、基板間の温度ばらつきを低減する。本発明の一実施形態に係る真空中で基板を加熱冷却する真空加熱冷却装置は、真空チャンバーと、真空チャンバーの大気側に配置され、加熱光を放射する放射エネルギー源と、真空チャンバーに放射エネルギー源からの加熱光を入射させるための入射部と、基板を保持するための基板保持部材を有し、加熱時に該基板保持部材保持させて基板を放射エネルギー源に近接した加熱位置に移動させ、非加熱時に放射エネルギー源から遠隔した非加熱位置に基板と基板保持部材を移動させる基板移動機構とを備える。上記基板保持部材は、基板を載置するための板状の形状であって、その外形が加熱光を入射させるための入射部の外形より大きい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)