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1. (WO2011043244) 成膜装置、成膜ヘッド及び成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/043244    国際出願番号:    PCT/JP2010/067136
国際公開日: 14.04.2011 国際出願日: 30.09.2010
IPC:
C23C 16/455 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ONO, Yuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HAYASHI, Teruyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ONO, Yuji; (JP).
HAYASHI, Teruyuki; (JP)
代理人: KOHNO, Takao; KOHNO PATENT OFFICE, 4-3, Tsuriganecho 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400035 (JP)
優先権情報:
2009-231835 05.10.2009 JP
発明の名称: (EN) FILM-FORMING DEVICE, FILM-FORMING HEAD, AND FILM-FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM, TÊTE DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置、成膜ヘッド及び成膜方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a film-forming device that enables the codeposition of an organic film-forming material and an inorganic film-forming material under the required conditions. The film-forming device is provided with a treatment chamber that accommodates a substrate (G) to be treated; a vapor-generating unit that is provided to the outside of the treatment chamber and that generates the vapor of the organic film-forming material; an organic film-forming material supply unit (22) that is provided to the inside of the treatment chamber and that emits the organic film-forming material vapor generated by the vapor-generating unit; an inorganic film-forming material supply unit (24) that is provided to the inside of the treatment chamber and that emits inorganic film-forming material vapor; and a mixing chamber (23) that mixes the organic film-forming material vapor emitted from the organic film-forming material supply unit (22) and the inorganic film-forming material vapor emitted from the inorganic film-forming material supply unit (24). The mixing chamber (23) provides to the film-forming device an outlet (23c) through which the mixed vapor of the organic film-forming material and the inorganic film-forming material pass, supplying the mixed vapor to the substrate (G) to be treated.
(FR)Cette invention concerne un dispositif de formation de film qui permet la codéposition d'un matériau filmogène organique et d'un matériau filmogène inorganique dans les conditions requises. Le dispositif de formation de film comprend une chambre de traitement qui accueille un substrat (G) à traiter ; une unité de génération de vapeur qui est disposée à l'extérieur de la chambre de traitement et qui génère la vapeur du matériau filmogène organique ; une unité de distribution de matériau filmogène organique (22) qui est disposée à l'intérieur de la chambre de traitement et qui émet la vapeur de matériau filmogène organique générée par l'unité de génération de vapeur ; une unité de distribution de matériau filmogène inorganique (24) qui est disposée à l'intérieur de la chambre de traitement et qui émet de la vapeur de matériau filmogène inorganique ; et une chambre de mélange (23) qui mélange la vapeur de matériau filmogène organique émise par l'unité de distribution de matériau filmogène organique (22) et la vapeur de matériau filmogène inorganique émise par l'unité de distribution de matériau filmogène inorganique (24). La chambre de mélange (23) ménage au dispositif de formation de film une sortie (23c) à travers laquelle passe le mélange de vapeur du matériau filmogène organique et du matériau filmogène inorganique, pour diffuser sur le substrat (G) à traiter la vapeur mélangée.
(JA) 所要条件下における有機成膜材料及び無機成膜材料の共蒸着が可能を可能にする成膜装置を提供する。被処理基板Gを収容する処理室と、処理室の外部に設けられており、有機成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部と、処理室の内部に設けられており、蒸気発生部で発生させた有機成膜材料の蒸気を噴出する有機成膜材料供給部22と処理室の内部に設けられており、無機成膜材料の蒸気を噴出する無機成膜材料供給部24と、有機成膜材料供給部22から噴出された有機成膜材料の蒸気と、無機成膜材料供給部24から噴出された無機成膜材料の蒸気とを混合させる混合室23を備え、混合室23は、有機成膜材料及び無機成膜材料の混合蒸気を通過させて被処理基板Gへ供給する開口部23cを成膜装置に備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)