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World Intellectual Property Organization
1. (WO2011043071) ペリクルおよびそのマスク接着剤

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/043071    国際出願番号:    PCT/JP2010/005996
国際公開日: 14.04.2011 国際出願日: 06.10.2010
C08L 23/12 (2006.01), C08L 25/04 (2006.01)
出願人: Mitsui Chemicals, Inc. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MURAKAMI, Shuichi; (米国のみ).
KOZEKI, Takashi; (米国のみ).
MORI, Minehiro; (米国のみ)
発明者: MURAKAMI, Shuichi; .
KOZEKI, Takashi; .
MORI, Minehiro;
代理人: WASHIDA, Kimihito; 8th Floor, Shinjuku First West Bldg. 1-23-7, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
2009-233576 07.10.2009 JP
(JA) ペリクルおよびそのマスク接着剤
要約: front page image
(EN)Disclosed is a pellicle which has a mask adhesive layer that has adequate softness and good handling properties, said mask adhesive layer leaving only few adhesive residue when separated from a mask. Particularly disclosed is a pellicle which is capable of suppressing displacement of a pattern during double patterning. The pellicle comprises a pellicle frame, a pellicle film that is arranged on one end face of the pellicle frame, and a mask adhesive layer that is arranged on the other end face of the pellicle frame. The mask adhesive layer contains 35-170 parts by mass (inclusive) of a hardness adjusting agent (B), which contains a polypropylene (b1) and a propylene elastomer (b2), per 100 parts by mass of a styrene resin (A). A phase separation structure composed of a continuous phase of the styrene resin (A) and dispersed phases of the hardness adjusting agent (B) is observed in an electron microscopic image of the mask adhesive layer.
(FR)L'invention concerne une pellicule qui possède une couche d'adhésif pour masque qui a une souplesse adéquate et de bonnes propriétés de manipulation, ladite couche d'adhésif pour masque laissant seulement peu de résidu d'adhésif lorsqu'elle est séparée d'un masque. L'invention concerne plus particulièrement une pellicule qui est capable de supprimer un déplacement d'un motif pendant un double traçage de motif. La pellicule comprend un cadre de pellicule, un film de pellicule qui est disposé sur une face d'extrémité du cadre de pellicule, et une couche d'adhésif pour masque qui est disposée sur l'autre face d'extrémité du cadre de pellicule. La couche d'adhésif pour masque contient 35-170 parties en masse (inclus) d'un agent d'ajustement de dureté (B), qui contient un polypropylène (b1) et un élastomère du propylène (b2), pour 100 parties en masse d'une résine de styrène (A). Une structure de séparation de phase composée d'une phase continue de la résine de styrène (A) et de phases dispersées de l'agent d'ajustement de dureté (B) est observée sur une image par microscopie électronique de la couche d'adhésif pour masque.
(JA) 本発明の目的は、適度な柔らかさを有しつつ、マスクから剥がした後の糊残りの少ない、ハンドリング性の良好なマスク接着剤層を有するペリクル;特にダブルパターニングにおけるパターンの位置ずれを抑制しうるペリクルを提供することである。本発明のペリクルは、ペリクルフレームと、前記ペリクルフレームの一端面に配置されるペリクル膜と、前記ペリクルフレームの他端面に配置されるマスク接着剤層と、を有するペリクルであって、前記マスク接着剤層は、100質量部のスチレン系樹脂(A)に対して、ポリプロピレン(b1)およびプロピレン系エラストマー(b2)を含む、35質量部以上170質量部以下の硬度調整剤(B)を含み、前記マスク接着剤層の電子顕微鏡写真において、スチレン系樹脂(A)の連続相と、硬度調整剤(B)の分散相との相分離構造が観察される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)