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1. (WO2011043049) SiOならびにこれを用いたバリアフィルム用蒸着材およびリチウムイオン二次電池用負極活物質
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/043049    国際出願番号:    PCT/JP2010/005927
国際公開日: 14.04.2011 国際出願日: 04.10.2010
予備審査請求日:    06.01.2011    
IPC:
C01B 33/113 (2006.01), B65D 81/24 (2006.01), H01M 4/48 (2010.01)
出願人: OSAKA TITANIUM TECHNOLOGIES CO., LTD. [JP/JP]; 1, Higashihama-cho, Amagasaki-shi, Hyogo 6608533 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KANNO, Hideaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIZAKI, Shingo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KANNO, Hideaki; (JP).
KIZAKI, Shingo; (JP)
代理人: MORI, Michio; M. MORI PATENT OFFICE, 17-23, Higashinaniwa-cho 5-chome, Amagasaki-shi, Hyogo 6600892 (JP)
優先権情報:
2009-235365 09.10.2009 JP
発明の名称: (EN) SIOX, AND DEPOSITION MATERIAL FOR BARRIER FILM AND NEGATIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL FOR LITHIUM ION SECONDARY BATTERY EACH UTILIZING SAME
(FR) SIOX, MATÉRIAU DE DÉPÔT POUR FILM DE BARRIÈRE ET MATÉRIAU ACTIF D'ÉLECTRODE NÉGATIVE POUR ACCUMULATEUR LITHIUM-ION L'UTILISANT
(JA) SiOならびにこれを用いたバリアフィルム用蒸着材およびリチウムイオン二次電池用負極活物質
要約: front page image
(EN)Disclosed is an SiOx which generates an H2O gas in an amount of 680 ppm or less as detected in a temperature range from 200 to 800°C in a thermally evolved gas analysis. In the SiOx, it is preferred that the amount of the H2O gas generated be 420 ppm or less. It is also preferred that the peak intensity (P1) which is a peak intensity at an Si peak point appearing around 2θ = 28° and the base intensity (P2) which is an intensity appearing at a peak point that is assumed based on an average gradient as determined in a backward and a forward of the aforementioned peak point in a graph produced by X-ray diffraction meet the requirement represented by the following formula: (P1-P2)/P2 ≤ 0.2. When the SiOx is used as a deposition material, a deposited film that does not undergo the occurrence of splashing during the formation of the film and has excellent gas barrier performance can be produced. When the SiOx is used as a negative electrode active material for a lithium ion secondary battery, the initial efficiency of the lithium ion secondary battery can be maintained at a high level.
(FR)Le SiOx faisant l'objet de la présente invention génère un gaz H2O en une quantité de 680 ppm ou moins, comme détecté dans une plage de températures de 200 à 800°C dans une analyse thermique des gaz émis. Dans le SiOx selon l'invention, il est préférable que la quantité de gaz H2O générée soit de 420 ppm ou moins. Il est également préférable que l'intensité de pic (P1), qui est une intensité de pic en un point de pic du Si apparaissant autour de 2θ = 28° et que l'intensité de base (P2), qui est l'intensité apparaissant en un point de pic supposé basé sur un gradient moyen, comme déterminé en arrière et en avant du point de pic susmentionné sur un graphique produit par diffraction des rayons X, satisfassent le critère représenté par la formule suivante : (P1-P2)/P2 ≤ 0,2. Quand le SiOx est utilisé en tant que matériau de dépôt, un film déposé qui ne subit pas d'effet d'éclaboussement pendant la formation du film et doué d'une excellente performance de barrière aux gaz peut être obtenu. Quand le SiOx est utilisé en tant que matériau actif d'électrode négative pour accumulateur lithium-ion, l'efficacité initiale de l'accumulateur lithium-ion peut être maintenue à un niveau élevé.
(JA)本発明は、昇温脱離ガス分析において、200~800℃の温度範囲で検出されるH2Oガス発生量が680ppm以下であるSiOxに係る。ここで、H2Oガス発生量はさらに420ppm以下であることが望ましい。また、X線回折により得られたグラフにおいて、2θ=28°付近に発生するSiピーク点におけるピーク強度P1と、ピーク点前後の平均勾配から想定したピーク点におけるベース強度P2が、(P1-P2)/P2≦0.2を満足することが望ましい。本発明のSiOxを蒸着材として用いることにより、成膜時にスプラッシュの発生を抑え、ガスバリア性に優れた蒸着膜の形成が可能である。また、本発明のSiOxを負極活物質として用いることにより、リチウムイオン二次電池の初期効率を高く維持できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)