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1. (WO2011040610) 触媒CVD装置、膜の形成方法、太陽電池の製造方法及び基材の保持体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/040610    国際出願番号:    PCT/JP2010/067285
国際公開日: 07.04.2011 国際出願日: 01.10.2010
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/24 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
出願人: SANYO ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 5-5, Keihan-Hondori 2-chome, Moriguchi-shi, Osaka 5708677 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMA, Masaki; (米国のみ).
WAKAMIYA, Yoshinori; (米国のみ).
OSONO, Shuji; (米国のみ).
OKAYAMA, Satohiro; (米国のみ).
OGATA, Hideyuki; (米国のみ)
発明者: SHIMA, Masaki; .
WAKAMIYA, Yoshinori; .
OSONO, Shuji; .
OKAYAMA, Satohiro; .
OGATA, Hideyuki;
代理人: TERAYAMA, Keishin; c/o Miyoshi International Patent Office, Toranomon Kotohira Tower, 2-8, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2009-230589 02.10.2009 JP
発明の名称: (EN) CATALYTIC CVD DEVICE, METHOD FOR FORMATION OF FILM, PROCESS FOR PRODUCTION OF SOLAR CELL, AND SUBSTRATE HOLDER
(FR) DISPOSITIF DE DCPV CATALYTIQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROCESSUS DE PRODUCTION DE CELLULE SOLAIRE, ET SUPPORT DE SUBSTRAT
(JA) 触媒CVD装置、膜の形成方法、太陽電池の製造方法及び基材の保持体
要約: front page image
(EN)In a catalytic CVD device (100), a holder (300) has a antireflective structure for the purpose of preventing the reflection of a radiant ray ejected from a catalyst wire (11) toward the side of a substrate (200).
(FR)L'invention concerne un dispositif de DCPV catalytique (100) dans lequel un support (300) possède une structure anti-réfléchissante afin d'empêcher la réflexion d'un rayon rayonnant émis par un câble catalytique (11) vers le côté d'un substrat (200).
(JA) 触媒CVD装置100において、保持体300は、触媒線11から放出される輻射線の基材200側への反射を防止するための反射防止構造を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)