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1. (WO2011040465) プラズマ処理装置及びこれに用いる遅波板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/040465    国際出願番号:    PCT/JP2010/066946
国際公開日: 07.04.2011 国際出願日: 29.09.2010
IPC:
H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OZAKI, Shigenori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OTA, Ryusaku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ADACHI, Hikaru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHITSUBO, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OZAKI, Shigenori; (JP).
OTA, Ryusaku; (JP).
ADACHI, Hikaru; (JP).
ISHITSUBO, Makoto; (JP)
代理人: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
優先権情報:
2009-225984 30.09.2009 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SLOW-WAVE PLATE USED THEREIN
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PLAQUE À ONDES LENTES UTILISÉE DANS CELUI-CI
(JA) プラズマ処理装置及びこれに用いる遅波板
要約: front page image
(EN)Disclosed is a plasma processing apparatus, which is provided with: a planar antenna member, which introduces electromagnetic waves generated by means of an electromagnetic wave generating apparatus into a processing container; a waveguide which supplies the electromagnetic waves to the planar antenna member; and a slow-wave plate, which is provided over the planar antenna member, and changes the wavelength of the electromagnetic waves supplied from the waveguide; a cover member which covers the slow-wave plate and the planar antenna member from above. The slow-wave plate is configured using a dielectric material, and the dielectric constant of the region between the planar antenna member and the cover member is not uniform on the cross-section parallel to the upper surface of the planar antenna member.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement par plasma, comportant : un élément d'antenne planaire, qui introduit des ondes électromagnétiques générées au moyen d'un appareil générateur d'ondes électromagnétiques dans un récipient de traitement ; un guide d'ondes qui fournit les ondes électromagnétiques à l'élément d'antenne planaire ; une plaque à ondes lentes qui est placée par-dessus l'élément d'antenne planaire et qui modifie la longueur d'onde des ondes électromagnétiques fournies à partir du guide d'ondes ; et un élément de couvercle qui recouvre la plaque à ondes lentes et l'élément d'antenne planaire par le dessus. La plaque à ondes lentes est configurée en utilisant un matériau diélectrique, la constante diélectrique de la région située entre l'élément d'antenne planaire et l'élément de couvercle n'étant pas uniforme sur la section droite parallèle à la surface supérieure de l'élément d'antenne planaire.
(JA)本発明のプラズマ処理装置は、電磁波発生装置で発生した電磁波を処理容器内に導入する平面アンテナ部材と、電磁波を平面アンテナ部材へ供給する導波管と、平面アンテナ部材の上に重ねて設けられ、導波管から供給された電磁波の波長を変化させる遅波板と、遅波板及び平面アンテナ部材を上方から覆うカバー部材と、を備え、遅波板は、誘電体によって構成されるとともに、平面アンテナ部材とカバー部材との間の領域の誘電率が、平面アンテナ部材の上面と平行な断面において、非均一である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)