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1. (WO2011040175) 重合体及び感放射線性組成物並びに単量体及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/040175    国際出願番号:    PCT/JP2010/065066
国際公開日: 07.04.2011 国際出願日: 02.09.2010
IPC:
C08F 20/10 (2006.01), C08F 212/04 (2006.01), C08F 220/10 (2006.01), C08F 220/54 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: JSR Corporation [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MARUYAMA Ken [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIMURA Tooru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MARUYAMA Ken; (JP).
KIMURA Tooru; (JP)
代理人: KOJIMA Seiji; JINGUHIGASHI ATSUTA Bldg., 4F., 8-20, Jingu 3-chome, Atsuta-ku, Nagoya-shi, Aichi 4560031 (JP)
優先権情報:
2009-228360 30.09.2009 JP
2010-159097 13.07.2010 JP
発明の名称: (EN) POLYMER, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, MONOMER, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) POLYMÈRE, COMPOSITION SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, MONOMÈRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
(JA) 重合体及び感放射線性組成物並びに単量体及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a radiation-sensitive composition that can form a chemical-amplification positive resist that has excellent nano-edge roughness, sensitivity, and resolution and can precisely and stably form small-scale patterns. Also provided are a polymer, a monomer, and a manufacturing method therefor. The provided radiation-sensitive composition contains: an acid-labile-group-containing polymer that contains a repeating unit represented by general formula (1); and a radiation-sensitive acid-generating agent. (1) (In the formula, R1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a fluorine atom, or a trifluoromethyl group; R2 represents a substituted or unsubstituted C6-22 aryl group; Y represents a carbon atom; X represents -X1Z1X2-, a group of atoms required to form a heteroatom-containing cyclic structure together with Y; Z1 represents -O-, -S-, -CO-, -COO-, -SO-, or -SO2-; X1 and X2 may be the same as or different from each other and each represent a single bond, a methylene group, or a C2-25 alkylene group; and a carbon atom in X1 may be bonded to a carbon atom in X2 in a divalent group.)
(FR)L'invention porte sur une composition sensible aux rayonnements qui permet de former une réserve positive à amplification chimique qui a d'excellentes rugosité de bord nanométrique, sensibilité et résolution et qui permet de former de façon précise et stable des motifs de petite échelle. L'invention porte également sur un polymère, un monomère et un procédé de fabrication correspondant. La composition sensible aux rayonnements de l'invention contient un polymère contenant un groupe labile en milieu acide qui contient un motif répété représenté par la formule générale (1); et un agent générateur d'acide sensible aux rayonnements. (1) (Dans la formule R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe méthyle, un atome de fluor ou un groupe trifluorométhyle; R2 représente un groupe aryle en C6-22 substitué ou non substitué; Y représente un atome de carbone; X représente -X1Z1X2-, un groupe d'atomes requis pour former une structure cyclique contenant des hétéroatomes conjointement avec Y; Z1 représente -O-, -S-, -CO-, -COO-, -SO- ou -SO2-; X1 et X2 peuvent être identiques l'un à l'autre ou différents l'un de l'autre et représentent chacun une simple liaison, un groupe méthylène ou un groupe alkylène en C2-25; et un atome de carbone dans X1 peut être lié à un atome de carbone dans X2 dans un groupe divalent.)
(JA) 本発明の目的は、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及び重合体並びに単量体及びその製造方法を提供することである。本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含む酸解離性基含有重合体と、感放射線性酸発生剤とを含有する。(式中、Rは水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、Rは置換若しくは非置換の炭素数6~22のアリール基であり、Yは炭素原子であり、XはYとともにヘテロ原子を含む環状構造を形成するのに必要な原子団であって、-X-を表し、Zは-O-、-S-、-CO-、-COO-、-SO-若しくは-SO-であり、X及びXは、互いに同一又は異なって、単結合、メチレン基又は炭素数2~25のアルキレン基であり、X及びXは置換基を有してもよく、X及びXはそれぞれに存在する炭素原子どうしが2価の基で結合されてもよい。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)