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1. (WO2011039910) 異物検査方法および異物検査装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/039910    国際出願番号:    PCT/JP2010/004105
国際公開日: 07.04.2011 国際出願日: 21.06.2010
IPC:
G01N 21/956 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
GUNJI, Masanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MORIOKA, Tomonari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AKIYAMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUSHIMA, Hideki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: GUNJI, Masanori; (JP).
MORIOKA, Tomonari; (JP).
AKIYAMA, Hiroshi; (JP).
FUKUSHIMA, Hideki; (JP)
代理人: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
優先権情報:
2009-225939 30.09.2009 JP
発明の名称: (EN) FOREIGN MATERIAL INSPECTING METHOD AND FOREIGN MATERIAL INSPECTING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION VISANT À DÉTECTER DES SUBSTANCES ÉTRANGÈRES ET APPAREIL AFFÉRENT
(JA) 異物検査方法および異物検査装置
要約: front page image
(EN)Disclosed are a method and an apparatus for accurately detecting defects of wafers having patterns, such as wafers of semiconductor devices, and defects of liquid crystal substrates and those of media. The inspecting apparatus has: an irradiation optical system which radiates light to a substrate to be inspected; a detection optical system which detects light from the substrate to be inspected; and a spatial filter which blocks diffracted light from the substrate to be inspected. The spatial filter has: a plurality of light blocking members; a control member which changes at least the shape, angle or interval of the blocking members; and a control unit which controls the control member.
(FR)Cette invention concerne un procédé et un appareil pour détecter avec précision les défauts de tranches de silicium portant des motifs, telles que les tranches de silicium de dispositifs semi-conducteurs, et les défauts des substrats à cristaux liquides et autres supports. L'appareil d'inspection selon l'invention comprend : un système optique d'irradiation qui irradie une lumière sur un substrat à inspecter; un système optique de détection qui détecte la lumière provenant du substrat à inspecter; et un filtre spatial qui bloque la lumière diffractée provenant du substrat à inspecter. Le filtre spatial comprend : une pluralité d'éléments qui bloquent la lumière; un élément de commande qui modifie au moins la forme, l'angle ou l'intervalle des éléments bloquants; et un contrôleur qui régit l'élément de commande.
(JA) 半導体デバイスなどパターンを有するウェハ,液晶基板およびメディア等の欠陥の高精度な異物検出方法および異物検査装置を提供する。 本発明の第1の特徴は、検査対象基板に光を照射する照射光学系と、前記検査対照基板からの光を検出する検出光学系と、前記検査対象基板からの回折光を遮光する空間フィルタとを有する検査装置において、前記空間フィルタは、複数の遮光材と、前記遮光材の形状,角度、または間隔の少なくとも1つを変化させる制御部材と、前記制御部材を制御する制御部と、を有することにある。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)