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1. (WO2011039864) 導光板の製造方法および導光板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/039864    国際出願番号:    PCT/JP2009/067068
国際公開日: 07.04.2011 国際出願日: 30.09.2009
IPC:
F21S 2/00 (2006.01), G02B 6/00 (2006.01)
出願人: KOWA COMPANY, LTD. [JP/JP]; 6-29, Nishiki 3-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4608625 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMOBE Etsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKIYAMA Hidetomo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMOBE Etsuo; (JP).
SAKIYAMA Hidetomo; (JP)
代理人: KATO Takashi; KYORITSU INTERNATIONAL Shinjuku Office, 5F Kasumi Bldg., 5-16, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT GUIDE PLATE, AND LIGHT GUIDE PLATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE DE GUIDAGE DE LUMIÈRE, ET PLAQUE DE GUIDAGE DE LUMIÈRE
(JA) 導光板の製造方法および導光板
要約: front page image
(EN)In a state wherein an optical lithography mask (12) having a plurality of openings, which have the same size and are regularly disposed at equal intervals with uniform density, is tilted and disposed on a substrate (10) having a resist layer (11) formed thereon, the resist layer is exposed through openings (13) of the optical lithography mask, and a molding die is formed using a plurality of fine structural bodies, which are obtained by developing the resist layer (11) and have tapered recessed shapes, respectively. Then, a light guide plate (40) having a plurality of fine structural bodies, which have tapered protruding shapes or tapered recessed shapes, respectively, is formed on a light outputting surface and/or the surface on the reverse side of the light outputting surface, by means of resin molding using the molding die. Each of the fine structural bodies of the light guide plate (40) has the tapered protruding shape or the tapered recessed shape, and the taper angle (θ) is formed such that the angle increases within a range of approximately 0° to 60-80° toward the further side from the light incoming section.
(FR)Dans un état dans lequel un masque de lithographie optique (12) comprenant une pluralité d'ouvertures, qui ont la même taille et qui sont disposées de manière régulière à intervalles égaux avec une densité uniforme, est incliné et disposé sur un substrat (10) comprenant une couche de réserve (11) formée sur celui-ci, la couche de réserve est exposée par des ouvertures (13) du masque de lithographie optique, et une matrice de moulage est formée au moyen d'une pluralité de corps structuraux fins, qui sont obtenus en formant la couche de réserve (11) et qui présentent des formes évidées inclinées, respectivement. Ensuite, une plaque de guidage de lumière (40) comprenant une pluralité de corps structuraux fins, qui présentent des formes faisant saillie inclinées ou des formes évidées inclinées, respectivement, est formée sur une surface d'émission de lumière et/ou sur la surface située sur le côté envers de la surface d'émission de lumière, au moyen d'un moulage en résine utilisant la matrice de moulage. Chacun des corps structuraux fins de la plaque de guidage de lumière (40) présente la forme faisant saillie inclinée ou la forme évidée inclinée, et l'angle d'inclinaison (Ө) est formé de sorte que l'angle augmente dans une plage d'environ 0° à environ 60-80° en direction du côté suivant depuis la section de réception de lumière.
(JA) 等間隔、等密度で規則的に配置された同じ大きさの開口を複数有する光学リソグラフィマスク12を、レジスト層11を形成した基板10上に傾斜して配置した状態で光学リソグラフィマスクの開口13を介して前記レジスト層を露光し、レジスト層11を現像して得られたテーパ凹形状の複数の微細構造体から金型を形成し、該金型を用いて樹脂成型により出射面または出射面と反対側の面の少なくともいずれか一方の面に、テーパ凸形状又はテーパ凹形状を有する複数の微細構造体を有する導光板40を形成する。導光板40の微細構造体はテーパ凸形状又はテーパ凹形状を有し、そのテーパ角度θは入射部から離間するに従ってほぼ0°から60°~80°の範囲内で増大するよう形成される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)