WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2011021622) パターン薄膜形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/021622    国際出願番号:    PCT/JP2010/063856
国際公開日: 24.02.2011 国際出願日: 17.08.2010
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05K 3/14 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (米国を除く全ての指定国).
CHIBA Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKASHIMA Yousuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: CHIBA Yasuhiro; (JP).
TAKASHIMA Yousuke; (JP)
優先権情報:
2009-190769 20.08.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMING PATTERN THIN FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE COUCHE MINCE À MOTIF
(JA) パターン薄膜形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a pattern-forming method, which can be used so as to form an organic compound layer and a second electrode (cathode) of a thin film organic EL panel configured with a first electrode (anode), the organic compound layer, and the second electrode (cathode) using a roll-to-roll system, and which can be used so as to form a pattern thin film on a strip-like base material with a high accuracy by moving a wire-like mask in accordance with the position of the strip-like base material in the transfer direction. In the pattern thin film forming method, at least two strip—like pattern thin films are formed by depositing a pattern-forming material on the strip-like base material, which is sequentially travelling, with at least one wire-like mask between the base material and the pattern-forming material. An aligning means is attached to the strip-like base material, the position of the aligning means is detected by means of a detecting means, and the pattern thin film is formed by adjusting the position of the wire-like mask.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de motif qui peut être utilisé pour former une couche composite organique et une deuxième électrode (cathode) d'un panneau électroluminescent organique à couche mince comprenant une première électrode (anode), la couche composite organique et la deuxième électrode (cathode) à l'aide d'un système rouleau à rouleau. Ce procédé peut être utilisé pour former une couche mince à motif sur un matériau de base en forme de bande avec une précision élevée en déplaçant un masque de type fil conformément à la position du matériau de base en forme de bande dans le sens de transfert. Selon ce procédé de formation de couche mince à motif, au moins deux couches minces à motif en forme de bandes sont réalisées par dépôt d'un matériau de formation de motif sur le matériau de base en forme de bande qui se déplace séquentiellement, avec au moins un masque de type fil entre le matériau de base et le matériau de formation de motif. Un moyen d'alignement est fixé au matériau de base en forme de bande, la position du moyen d'alignement est détectée à l'aide d'un moyen de détection et la couche mince à motif est réalisée par ajustement de la position du masque de type fil.
(JA) ロールツーロール方式で第1電極(陽極)/有機化合物層/第2電極(陰極)で構成する薄膜型の有機ELパネルの有機化合物層や第2電極(陰極)の形成にも使用出来、帯状基材の搬送方向位置に合わせワイヤー状マスクを移動させ、帯状基材上に高精度にパターン薄膜を形成するパターン形成方法を提供するため、連続走行する帯状基材の上に少なくとも1本のワイヤー状マスクを介して、パターン形成物質を蒸着せることにより、少なくとも2条の帯状のパターン薄膜を形成するパターン薄膜形成方法において、前記帯状基材にはアライメント手段が付けられており、前記アライメント手段の位置を検知手段により検知し、前記ワイヤー状マスクの位置を調整しパターン薄膜を形成することを特徴とするパターン薄膜形成方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)