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1. (WO2011021555) 脂肪族環と芳香族環を含有する樹脂を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/021555    国際出願番号:    PCT/JP2010/063631
国際公開日: 24.02.2011 国際出願日: 11.08.2010
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHINJO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NISHIMAKI, Hirokazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HASHIMOTO, Keisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHINJO, Tetsuya; (JP).
NISHIMAKI, Hirokazu; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
HASHIMOTO, Keisuke; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2009-189700 19.08.2009 JP
発明の名称: (EN) RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING RESIN HAVING ALIPHATIC RING AND AROMATIC RING
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE POUR LA LITHOGRAPHIE CONTENANT UNE RÉSINE AYANT UN CYCLE ALIPHATIQUE ET UN CYCLE AROMATIQUE
(JA) 脂肪族環と芳香族環を含有する樹脂を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a resist underlayer film which has heat resistance and etching resistance at the same time. Specifically disclosed is a resist underlayer film-forming composition for lithography, which contains (C) a reaction product of (A) an alicyclic epoxy polymer and (B) a fused aromatic carboxylic acid and a monocyclic aromatic carboxylic acid. The alicyclic epoxy polymer (A) has a repeating structural unit represented by formula (1) (wherein T represents a repeating unit structure that has an aliphatic ring in the main chain of a polymer, and E represents an epoxy group or an organic group having an epoxy group). The fused aromatic carboxylic acid and the monocyclic aromatic carboxylic acid (B) contain a fused aromatic carboxylic acid (B1) and a monocyclic aromatic carboxylic acid (B2) at a molar ratio B1:B2 of from 3:7 to 7:3. The fused aromatic carboxylic acid (B1) is 9-anthracene carboxylic acid, and the monocyclic aromatic carboxylic acid (B2) is benzoic acid.
(FR)La présente invention se rapporte à un film de sous-couche de réserve qui présente en même temps une résistance à la chaleur et une résistance à la gravure. De façon précise, la présente invention se rapporte à une composition de formation de film de sous-couche de réserve pour la lithographie qui contient (C) un produit de réaction (A) d'un polymère époxy alicyclique et (B) un acide carboxylique aromatique fusionné et un acide carboxylique aromatique monocylique. Le polymère époxy alicyclique (A) comprend un motif structurel répété représenté par la formule (1) (dans lequel T représente une structure de motif répété qui présente un cycle aliphatique dans la chaîne principale d'un polymère et E représente un groupe époxy ou un groupe organique ayant un groupe époxy). L'acide carboxylique aromatique fusionné et l'acide carboxylique aromatique monocylique (B) contiennent un acide carboxylique aromatique fusionné (B1) et un acide carboxylique aromatique monocylique (B2) selon un rapport molaire B1/B2 variant entre 3/7 et 7/3. L'acide carboxylique aromatique fusionné (B1) est l'acide anthracène-9-carboxylique et l'acide carboxylique aromatique monocyclique (B2) est l'acide benzoïque.
(JA)【課題】耐熱性と耐エッチング性を兼ね備えたレジスト下層膜を提供する。 【解決手段】脂環式エポキシポリマー(A)と、縮合環式芳香族カルボン酸及び単環式芳香族カルボン酸(B)との反応生成物(C)を含む、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。 前記脂環式エポキシポリマー(A)が下記式(1):(Tはポリマーの主鎖に脂肪族環を有する繰り返し単位構造を表し、Eはエポキシ基又はエポキシ基を有する有機基を表す。)で表される繰り返し構造単位を有する。また、前記縮合環式芳香族カルボン酸及び単環式芳香族カルボン酸(B)が、縮合環式芳香族カルボン酸(B1)と単環式芳香族カルボン酸(B2)とを、モル比でB1:B2=3:7~7:3の割合で含むものである。さらに、前記縮合環式芳香族カルボン酸(B1)が9-アントラセンカルボン酸であり、前記単環式芳香族カルボン酸(B2)が安息香酸である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)