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1. (WO2011021549) 熱処理装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/021549    国際出願番号:    PCT/JP2010/063617
国際公開日: 24.02.2011 国際出願日: 11.08.2010
H01L 21/26 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOMATSU Tomohito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAMAISHI Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAZAKI Ryoji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOMATSU Tomohito; (JP).
KAMAISHI Takayuki; (JP).
代理人: TAKAYAMA Hiroshi; Sangenjaya Horisho Bldg. 2F, 1-12-39, Taishido, Setagaya-ku, Tokyo 1540004 (JP)
2009-188930 18.08.2009 JP
(JA) 熱処理装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a heat treatment apparatus (100) which comprises: a treatment chamber (1) in which a wafer (W) is contained; a substrate supporting unit (4) for horizontally supporting the wafer (W) within the treatment chamber (1); and a lamp unit (3) that is provided above the treatment chamber (1). The lamp unit (3) comprises: a base member (40); a plurality of lamps (45) that are provided on the lower surface of the base member (40) with the front ends facing down; a plurality of ring-shaped reflectors (41, 42, 43) that are concentrically provided on the lower surface of the base member (40) so as to project downward; and a cooling head (47) for supplying a cooling medium into the reflectors (41, 42, 43). At least some of the plurality of lamps (45) are arranged along the reflectors (41, 42, 43), and cooling medium channels (68), each of which is composed of a ring-shaped space, are provided within the reflectors (41, 42, 43) in the arrangement direction of the reflectors.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement par la chaleur (100) comprenant : une chambre de traitement (1) dans laquelle une tranche (W) est enfermée ; une unité support de substrat (4) destinée à supporter horizontalement cette tranche (W) dans la chambre de traitement (1) ; et une unité à lampes (3) qui est présente au-dessus de la chambre de traitement (1). L'unité à lampes (3) comprend : un élément de base (40) ; une pluralité de lampes (45) qui sont montées sur la surface inférieure de l'élément de base (40) et dont les extrémités avant sont orientées vers le bas ; une pluralité de réflecteurs de forme annulaire (41, 42, 43) qui sont disposés de manière concentrique sur la surface inférieure de l'élément de base (40) de façon à s'étendre vers le bas ; et une tête de refroidissement (47) destinée à acheminer un milieu réfrigérant dans les réflecteurs (41, 42, 43). Au moins une partie de la pluralité de lampes (45) est disposée le long des réflecteurs (41, 42, 43), et des canaux de milieu réfrigérant (68), chacun étant composé d'un espace de forme annulaire, sont présents à l'intérieur des réflecteurs (41, 42, 43) dans le sens dans lequel sont montés les réflecteurs.
(JA) 熱処理装置(100)は、ウエハWを収容する処理容器(1)と、処理容器(1)内でウエハWを水平に支持する基板支持部(4)と、処理容器(1)の上方に設けられたランプユニット(3)とを具備し、ランプユニット(3)は、ベース部材(40)と、ベース部材40の下面に、先端を下方に向けて設けられた複数のランプ(45)と、ベース部材(40)の下面に、同心状にかつ下方に突出するように設けられたリング状の複数のリフレクタ(41,42,43)と、リフレクタ(41,42,43)の内部に冷却媒体を供給する冷却ヘッド(47)とを有し、複数のランプ(45)の少なくとも一部は、リフレクタ(41,42,43)に沿って設けられており、リフレクタ(41,42,43)の内部には、その配置方向に沿ってリング状の空間からなる冷却媒体流路(68)が形成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)