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1. (WO2011021478) ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/021478    国際出願番号:    PCT/JP2010/062588
国際公開日: 24.02.2011 国際出願日: 27.07.2010
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Opto, Inc. [JP/JP]; 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAEKI Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAEKI Shinichi; (JP)
優先権情報:
2009-188318 17.08.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE, GLASS SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE, SUBSTRAT EN VERRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for manufacturing a glass substrate, which has a step of immersing the glass substrate in an acid or alkaline solution, and a rinse step wherein the glass substrate, which has been subjected to the immersing step, is cleaned. In the method, after performing a first polishing step, the immersion step, the rinse step, and a second polishing step are performed in this order. Thus, the glass substrate having high smoothness can be efficiently manufactured.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un substrat en verre, qui a une étape d'immersion de substrat en verre dans une solution acide ou alcaline, et une étape de rinçage dans laquelle le substrat en verre, qui a été soumis à l'étape d'immersion, est nettoyé. Dans le procédé, après réalisation d'une première étape de polissage, l'étape d'immersion, l'étape de rinçage, et une seconde étape de polissage sont réalisées dans cet ordre. Ainsi, le substrat en verre ayant un poli élevé peut être fabriqué de manière efficace.
(JA) ガラス基板を酸またはアルカリの溶液に浸漬する溶液浸漬工程と、溶液浸漬工程を終えたガラス基板を洗浄するリンス工程と、を有し、第1研磨工程を行った後、溶液浸漬工程、リンス工程、第2研磨工程の順に行う。これにより、平滑性の高いガラス基板を効率的に製造することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)