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1. (WO2011018970) タンタルスパッタリングターゲット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/018970    国際出願番号:    PCT/JP2010/063193
国際公開日: 17.02.2011 国際出願日: 04.08.2010
予備審査請求日:    02.11.2010    
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C22C 27/02 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01), C22F 1/18 (2006.01)
出願人: JX Nippon Mining & Metals Corporation [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku , Tokyo 1008164 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUKUSHIMA Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ODA Kunihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SENDA Shinichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUKUSHIMA Atsushi; (JP).
ODA Kunihiro; (JP).
SENDA Shinichiro; (JP)
代理人: OGOSHI Isamu; OGOSHI International Patent Office Daini-Toranomon Denki Bldg., 5F, 3-1-10, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2009-186237 11.08.2009 JP
発明の名称: (EN) TANTALUM SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION DE TANTALE
(JA) タンタルスパッタリングターゲット
要約: front page image
(EN)Disclosed is a tantalum sputtering target which is characterized by containing 1-100 ppm by mass (inclusive) of molybdenum as an essential ingredient and having a purity of not less than 99.998% when molybdenum and gas components are excluded. Also disclosed is the tantalum sputtering target which is characterized by additionally containing 0-100 ppm by mass (excluding 0 ppm by mass) of niobium and having a purity of not less than 99.998% when molybdenum, niobium and gas components are excluded. Each of the tantalum sputtering targets has a uniform fine structure and high purity, and provides stable plasma and a film having excellent uniformity.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation de tantale qui est caractérisée en ce qu'elle contient 1-100 ppm (inclus) en poids de molybdène comme ingrédient essentiel, et présente une pureté d'au moins 99,998% quand le molybdène et les composants gazeux sont exclus. L'invention concerne aussi une cible de pulvérisation de tantale qui est caractérisée en ce qu'elle contient en outre 0-100 ppm en poids (à l'exclusion de 0 ppm en poids) de niobium, et présente une pureté d'au moins 99,998% quand le molybdène, le niobium et les composants gazeux sont exclus. Chacune des cibles de pulvérisation de tantale présente une structure fine uniforme et une grande pureté, et produit un plasma stable et un film présentant une excellente uniformité.
(JA)1massppm以上、100massppm以下のモリブデンを必須成分として含有し、モリブデン及びガス成分を除く純度が99.998%以上であることを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。上記に、0~100massppm(但し0massppmを除く)のニオブをさらに含有し、モリブデン、ニオブ及びガス成分を除く純度が99.998%以上であることを特徴とする記載のタンタルスパッタリングターゲット。均一微細な組織を備え、プラズマが安定であり、膜の均一性(ユニフォーミティ)に優れた高純度タンタルスパッタリングターゲットを得る。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)