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1. (WO2011016323) 化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/016323    国際出願番号:    PCT/JP2010/061939
国際公開日: 10.02.2011 国際出願日: 15.07.2010
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2006.01), C09K 3/14 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (米国を除く全ての指定国).
BABA, Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAMOTO, Tatsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAI, Yuugo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAMEI, Yasutaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: BABA, Atsushi; (JP).
KAWAMOTO, Tatsuyoshi; (JP).
TAI, Yuugo; (JP).
KAMEI, Yasutaka; (JP)
代理人: OFUCHI, Michie; 2nd Floor, Ogikubo TM Bldg., 26-13, Ogikubo 5-chome, Suginami-ku, Tokyo 1670051 (JP)
優先権情報:
2009-184618 07.08.2009 JP
発明の名称: (EN) AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME
(FR) DISPERSION AQUEUSE POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE UTILISANT CELLE-CI
(JA) 化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法
要約: front page image
(EN)An aqueous dispersion for chemical mechanical polishing which comprises both (A) silica particles and (B) a compound having two or more carboxyl groups, characterized in that, in the particle size distribution obtained by subjecting the aqueous dispersion to particle size determination by a dynamic light scattering method, the particle diameter (Db) at which the silica particles (A) exhibit the highest detection frequency (Fb) satisfies the relationship: 35nm < Db ≤ 90nm, and the Fa/Fb ratio is 0.5 or less, Fa being the detection frequency of silica particles that have particle diameters (Da) satisfying the relationship: 90nm < Da ≤ 100nm).
(FR)L'invention concerne une dispersion aqueuse pour polissage chimico-mécanique contenant à la fois (A) des particules de silice et (B) un composé comportant deux ou plus de deux groupements carboxyles, caractérisé en ce que, dans la répartition des tailles de particules obtenue en soumettant la dispersion aqueuse à une détermination de la taille des particules par un procédé de dispersion lumineuse dynamique, le diamètre des particules (Db) pour lequel les particules de silice (A) présentent la fréquence de détection (Fb) la plus élevée satisfait à la relation 35 nm < Db ≤ 90 nm et en ce que le rapport Fa/Fb est égal ou inférieur à 0,5, Fa étant la fréquence de détection de particules de silice ayant des diamètres de particules (Da) satisfaisant à la relation 90 nm ≤ Da ≤ 100 nm.
(JA) 本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、シリカ粒子(A)と、2個以上のカルボキシル基を有する化合物(B)と、を含有する化学機械研磨用水系分散体であって、前記化学機械研磨用水系分散体を動的光散乱法によって測定することにより得られる粒度分布において、前記シリカ粒子(A)の最も高い検出頻度(Fb)を示す粒子径(Db)が35nm<Db≦90nmの範囲にあり、粒子径(Da)が90nm<Da≦100nmの範囲の検出頻度(Fa)と前記検出頻度(Fb)との比率(Fa/Fb)が0.5以下であることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)