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1. (WO2011013626) 有機デバイス用蒸着材料及び有機デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/013626    国際出願番号:    PCT/JP2010/062538
国際公開日: 03.02.2011 国際出願日: 26.07.2010
IPC:
H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HAYASHI, Masayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HAYASHI, Masayuki; (JP)
代理人: HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES, 4th Floor, Shinjuku TR Bldg., 2-2-13, Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP)
優先権情報:
2009-179957 31.07.2009 JP
2009-219311 24.09.2009 JP
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION MATERIAL FOR ORGANIC DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC DEVICE
(FR) MATÉRIAU DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR POUR DISPOSITIF ORGANIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ORGANIQUE
(JA) 有機デバイス用蒸着材料及び有機デバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a vapor deposition material which is used for the production of an organic device. The vapor deposition material for an organic device has an average particle diameter expressed as D50% of 10-200 μm and a uniformity degree expressed as D60% diameter/D10% diameter of 1.0-4.0.
(FR)L'invention concerne un matériau de dépôt en phase vapeur utilisé pour la fabrication d'un dispositif organique. Le matériau de dépôt en phase vapeur pour dispositif organique possède un diamètre moyen des particules exprimé sous la forme D50% de 10 à 200 µm et un degré d'uniformité exprimé sous la forme D60% du diamètre/D10% du diamètre compris entre 1,0 et 4,0.
(JA) 有機デバイスの製造に用いられる蒸着材料であって、D50%で表される平均粒径が10μm~200μmであり、かつD60%径/D10%径で表される均一度が1.0~4.0である有機デバイス用蒸着材料を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)