WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2011013616) 選択酸化処理方法、選択酸化処理装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/013616    国際出願番号:    PCT/JP2010/062518
国際公開日: 03.02.2011 国際出願日: 26.07.2010
IPC:
H01L 21/316 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/8247 (2006.01), H01L 27/115 (2006.01), H01L 29/788 (2006.01), H01L 29/792 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAMURA Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KABE Yoshiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISA Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITAGAWA Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAMURA Hideo; (JP).
KABE Yoshiro; (JP).
ISA Kazuhiro; (JP).
KITAGAWA Junichi; (JP)
代理人: KATSUNUMA Hirohito; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2009-173810 27.07.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR SELECTIVE OXIDATION, DEVICE FOR SELECTIVE OXIDATION, AND COMPUTER-READABLE MEMORY MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ POUR OXYDATION SÉLECTIVE, DISPOSITIF POUR OXYDATION SÉLECTIVE ET SUPPORT DE MÉMOIRE ASSIMILABLE PAR ORDINATEUR
(JA) 選択酸化処理方法、選択酸化処理装置およびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for selective oxidation in which a plasma of hydrogen gas and an oxygenic gas is caused to act, within the treatment vessel of a plasma treatment apparatus, on an object to be treated in which silicon and a metallic material are exposed in the surface, and the silicon is selectively oxidized with the plasma. The method for selective oxidation comprises: a gas introduction step in which, after the time when hydrogen gas began to be supplied from a hydrogen gas source using a first inert gas as a carrier gas supplied through a first supply passage but before the plasma is ignited, the oxygenic gas begins to be supplied from an oxygenic-gas source using a second inert gas as a carrier gas supplied through a second supply passage, which is different from the first supply passage; a plasma ignition step in which a plasma of a treatment gas comprising the oxygenic gas and the hydrogen gas is ignited in the treatment vessel; and a selective oxidation step in which the silicon is selectively oxidized with the plasma.
(FR)La présente invention a trait à un procédé pour oxydation sélective permettant de faire agir un plasma de gaz d'hydrogène et un gaz d'oxygène, à l'intérieur de la cuve de traitement d'un appareil de traitement au plasma, sur un objet devant être traité où le silicium et un matériau métallique sont exposés à la surface, et le silicium est oxydé de façon sélective avec le plasma. Le procédé pour oxydation sélective comprend : une étape d'introduction de gaz au cours de laquelle, après le lancement de l'alimentation en gaz d'hydrogène à partir d'une source de gaz d'hydrogène utilisant un premier gaz inerte en tant que gaz porteur acheminé à travers un premier passage d'alimentation mais avant l'allumage du plasma, le gaz d'oxygène est fourni à partir d'une source de gaz d'oxygène utilisant un second gaz inerte en tant que gaz porteur acheminé à travers un second passage d'alimentation, qui est différent du premier passage d'alimentation ; une étape d'allumage du plasma au cours de laquelle le plasma d'un gaz de traitement comprenant le gaz d'oxygène et le gaz d'hydrogène fait l'objet d'un allumage dans la cuve de traitement ; et une étape d'oxydation sélective au cours de laquelle le silicium est oxydé de façon sélective avec le plasma.
(JA) 表面にシリコンとメタル材料とが露出した被処理体に対し、プラズマ処理装置の処理容器内で水素ガスと酸素含有ガスのプラズマを作用させ、このプラズマにより前記シリコンを選択的に酸化処理する選択酸化処理方法が開示される。この選択酸化処理方法は、第1の供給経路を介する第1の不活性ガスをキャリアガスとして、水素ガス供給源からの前記水素ガスを供給開始した時点以降、前記プラズマを着火するよりも前に、前記第1の供給経路とは異なる第2の供給経路を介する第2の不活性ガスをキャリアガスとして、酸素含有ガス供給源からの前記酸素含有ガスを供給開始するガス導入工程と、前記処理容器内で前記酸素含有ガスと前記水素ガスを含む処理ガスのプラズマを着火するプラズマ着火工程と、前記プラズマにより前記シリコンを選択的に酸化処理する選択酸化処理工程と、 を備えている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)