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1. (WO2011013459) プラズマ処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/013459    国際出願番号:    PCT/JP2010/060198
国際公開日: 03.02.2011 国際出願日: 16.06.2010
IPC:
C23C 16/505 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISSIN ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 47, Umezutakase-cho, Ukyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6158686 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOSHIDA, Tokuo; (米国のみ).
MORIGUCHI, Masao; (米国のみ).
HOSHINO, Atsuyuki; (米国のみ).
TAKAHASHI, Eiji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOSHIDA, Tokuo; .
MORIGUCHI, Masao; .
HOSHINO, Atsuyuki; .
TAKAHASHI, Eiji; (JP)
代理人: FUKAMI, Hisao; Fukami Patent Office, p.c., Nakanoshima Central Tower 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2009-175258 28.07.2009 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約: front page image
(EN)A plasma processing apparatus (101) is provided with: a chamber, which includes side walls (12) and a top plate (11); a stage (14) for disposing a subject to be processed (13) in the chamber; a plurality of main electrodes (15), each of which includes two main electrode first portions that penetrate the top plate (11), and a main electrode second portion that connects together, on the side lower than the lower surface of the top plate (11), the lower ends of the main electrode first portions; and a plurality of auxiliary electrodes (16), each of which is disposed close to each of the side walls (12) and outside of the top plate (11) region wherein the main electrodes (15) are arranged, and which includes two auxiliary electrode first portions that penetrate the top plate (11), and an auxiliary electrode second portion that connects together the lower ends of the auxiliary electrode first portions.
(FR)L'appareil de traitement au plasma (101) de l'invention comprend : une chambre, qui comprend des parois latérales (12) et une plaque supérieure (11) ; un étage (14) pour disposer une pièce à traiter (13) dans la chambre ; une pluralité d'électrodes principales (15) dont chacune comprend deux premières parties d'électrode principale qui pénètrent dans la plaque supérieure (11), et une seconde partie d'électrode principale qui relie, du côté situé plus bas que la surface inférieure de la plaque supérieure (11), les extrémités inférieures des premières parties d'électrode principale ; et une pluralité d'électrodes auxiliaires (16) dont chacune est disposée à proximité de chacune des parois latérales (12) et en dehors de la zone de la plaque supérieure (11) dans laquelle sont disposées les électrodes principales (15). Lesdites électrodes auxiliaires comprennent deux premières parties d'électrode auxiliaire qui pénètrent la plaque supérieure (11), et une seconde partie d'électrode auxiliaire qui relie les extrémités inférieures des premières parties d'électrode auxiliaire.
(JA) プラズマ処理装置(101)は、側壁(12)と天板(11)とを含むチャンバと、前記チャンバ内に処理対象物(13)を配置するためのステージ(14)と、天板(11)を貫通する2本の主電極第1部分と天板(11)の下面より下側で前記主電極第1部分の下端同士を互いに接続する主電極第2部分とをそれぞれ含む複数の主電極(15)と、天板(11)のうち複数の主電極(15)が配列されている領域の外側かつ側壁(12)近傍に配置され、天板(11)を貫通する2本の補助電極第1部分と前記補助電極第1部分の下端同士を互いに接続する補助電極第2部分とをそれぞれ含む複数の補助電極(16)とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)