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1. (WO2011013385) プラズマ処理装置および磁気記録媒体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/013385    国際出願番号:    PCT/JP2010/004848
国際公開日: 03.02.2011 国際出願日: 30.07.2010
IPC:
C23F 4/00 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMANAKA, Kazuto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Akio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMANAKA, Kazuto; (JP).
SATO, Akio; (JP)
代理人: OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Kioicho Park Bldg., 3-6, Kioicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020094 (JP)
優先権情報:
2009-179425 31.07.2009 JP
発明の名称: (EN) PLASMA TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT À PLASMA ET PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) プラズマ処理装置および磁気記録媒体の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a plasma treatment apparatus, which is provided with: a discharge window composed of a dielectric material; a discharge tank, which has an opening formed at one end, is provided with the discharge window on the other end that faces the opening, and which is grounded; a gas supply system which supplies a gas to the inside of the discharge tank; a high frequency power applying mechanism which generates plasma inside of the discharge tank by applying high frequency power to the gas; a substrate holder, which can hold, outside of the discharge tank, the substrate in the state wherein the substrate holder faces the discharge window; a blocking member, which blocks a part of the plasma applied to the substrate; and a supporting member which supports the blocking member. The supporting member is provided at a position further from the substrate than the blocking member, is fixed at a position other than on the discharge window, and is grounded.
(FR)L'invention porte sur un appareil de traitement à plasma, lequel appareil comporte : une fenêtre de décharge constituée par un matériau diélectrique ; un réservoir de décharge, qui comporte une ouverture formée à une extrémité, comportant la fenêtre de décharge sur l'autre extrémité qui fait face à l'ouverture, et étant mis à la masse ; un système d'alimentation en gaz qui délivre un gaz à l'intérieur du réservoir de décharge ; un mécanisme d'application d'énergie à haute fréquence qui génère un plasma à l'intérieur du réservoir de décharge par application d'une énergie à haute fréquence au gaz ; un support de substrat, qui peut supporter, à l'extérieur du réservoir de décharge, le substrat dans l'état dans lequel le support de substrat fait face à la fenêtre de décharge ; un élément de blocage, qui bloque une partie du plasma appliqué au substrat ; et un élément de support, qui supporte l'élément de blocage. L'élément de support est disposé en une position plus éloignée du substrat que l'élément de blocage, il est fixé en une position autre que sur la fenêtre de décharge, et il est mis à la masse.
(JA) プラズマ処理装置は、誘電体からなる放電窓と、一端に開口部が形成されており、開口部に対向する他端に放電窓が設けられ、かつ接地されている放電槽と、放電槽の内部にガスを供給するガス供給系と、ガスに高周波電力を印加して放電槽の内部にプラズマを発生させる高周波電力印加機構と、放電槽の外部で、放電窓と対向した状態で基板を保持可能な基板ホルダーと、基板に照射されるプラズマの一部を遮蔽する遮蔽部材と、遮蔽部材を支持する支持部材とを備える。支持部材は、遮蔽部材に対し基板から遠ざかる位置に設けられるとともに、放電窓以外の位置に固定され、かつ接地されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)