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1. (WO2011013342) パターン評価方法、その装置、及び電子線装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/013342    国際出願番号:    PCT/JP2010/004743
国際公開日: 03.02.2011 国際出願日: 26.07.2010
IPC:
H01J 37/22 (2006.01), G01B 15/00 (2006.01), H01J 37/147 (2006.01), H01J 37/21 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMANASHI, Hiromasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SOHDA, Yasunari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OHASHI, Takeyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUDA, Muneyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMANASHI, Hiromasa; (JP).
SOHDA, Yasunari; (JP).
OHASHI, Takeyoshi; (JP).
FUKUDA, Muneyuki; (JP)
代理人: Polaire I.P.C.; 7-1,Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
優先権情報:
2009-174315 27.07.2009 JP
2009-185845 10.08.2009 JP
発明の名称: (EN) PATTERN EVALUATION METHOD, DEVICE THEREFOR, AND ELECTRON BEAM DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE MOTIF, DISPOSITIF ASSOCIÉ, ET DISPOSITIF À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE
(JA) パターン評価方法、その装置、及び電子線装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a pattern evaluation device which determines the irregularities of the surface of a sample and measures the dimension thereof using the parallax induced by a beam tilt, wherein the amount of an astigmatic difference or the amount of focus displacement is calculated from the amounts of pattern displacement before and after the beam tilt after being corrected by the amount of displacement that depends on the amount of beam deflection for moving the position of image acquisition. Specifically disclosed is a pattern evaluation device which, when acquiring one SEM image, continuously changes the angle of incidence of primary electrons, and acquires an image in which the regions obtained at different angles of incidence within the same image are continuously connected, thereby determining the irregularities on the basis of the acquisition of the one image.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'évaluation de motif déterminant les irrégularités de la surface d'un échantillon et mesurant la dimension de celle-ci à l'aide de la parallaxe induite par l'inclinaison d'un faisceau, la valeur de différence astigmatique ou la valeur de déplacement de la focalisation étant calculée à partir des valeurs de déplacement du motif avant et après l'inclinaison du faisceau, après correction par la valeur de déplacement dépendant de la valeur de déviation du faisceau, pour déplacer la position de l'acquisition d'image. En particulier, l'invention concerne un dispositif d'évaluation de motif qui, à l'acquisition d'une image par microscope électronique à balayage, modifie continûment l'angle d'incidence des électrons primaires, et acquiert une image dans laquelle les régions obtenues à différents angles d'incidence dans la même image sont reliées en continu, déterminant ainsi les irrégularités sur la base de l'acquisition de l'image.
(JA) ビームの傾斜による視差を利用して試料表面の凹凸判定をし、寸法測定を行うパターン評価装置において、画像取得位置を移動するためのビーム偏向量に依存する位置ずれ量で補正した後のビーム傾斜前後のパターン位置ずれ量から、非点較差量又は焦点位置ずれ量を算出する。また、1枚のSEM画像を取得する際に一次電子の入射角を連続的に変化させ、同一画像内で異なる入射角で得られた領域が連続的につながっている画像を取得することにより、1枚の画像取得により凹凸判定を行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)