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1. (WO2010134609) 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材および電子デバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/134609    国際出願番号:    PCT/JP2010/058668
国際公開日: 25.11.2010 国際出願日: 21.05.2010
IPC:
C08J 7/00 (2006.01), B32B 27/16 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), H01L 31/042 (2006.01), H05B 33/04 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01)
出願人: LINTEC Corporation [JP/JP]; 23-23, Honcho, Itabashi-ku, Tokyo 1730001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HOSHI Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITO Masaharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UEMURA Kazue [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI Yuta [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HOSHI Shinichi; (JP).
ITO Masaharu; (JP).
UEMURA Kazue; (JP).
SUZUKI Yuta; (JP)
代理人: OHISHI Haruhito; Kotani Bldg. 1F, 5-3, Uchikanda 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
優先権情報:
2009-123913 22.05.2009 JP
発明の名称: (EN) MOLDED OBJECT, PROCESS FOR PRODUCING SAME, MEMBER FOR ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) OBJET MOULÉ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ÉLÉMENT POUR UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材および電子デバイス
要約: front page image
(EN)Provided is a molded object having a gas-barrier layer constituted of a material comprising oxygen atoms, carbon atoms, and silicon atoms, wherein the gas-barrier layer has a region in which the concentration of oxygen atoms and the concentration of carbon atoms in the layer gradually decrease and gradually increase, respectively, from the surface in the depth direction, the region including a partial region having a concentration of oxygen atoms of 20-55%, a concentration of carbon atoms of 25-70%, and a concentration of silicon atoms of 5-20% with respect to the total amount of the oxygen atoms, carbon atoms, and silicon atoms and a partial region having a concentration of oxygen atoms of 1-15%, a concentration of carbon atoms of 72-87%, and a concentration of silicon atoms of 7-18%. Also provided are: a molded object having a gas-barrier layer obtained by injecting ions into a layer containing a polysilane compound; a process for producing the molded object; a member for electronic devices which comprises the molded object; and an electronic device equipped with the member for electronic devices. The molded object has excellent gas-barrier properties, flexing resistance, adhesion, and surface smoothness.
(FR)L'invention porte sur un objet moulé ayant une couche barrière aux gaz constituée d'une matière comprenant des atomes d'oxygène, des atomes de carbone et des atomes de silicium, dans laquelle la couche barrière aux gaz a une région dans laquelle la concentration d'atomes d'oxygène et la concentration d'atomes de carbone dans la couche respectivement diminuent progressivement et augmentent progressivement, à partir de la surface dans la direction de la profondeur, la région comprenant une région partielle ayant une concentration d'atomes d'oxygène de 20-55 %, une concentration d'atomes de carbone de 25-70 % et une concentration d'atomes de silicium, de 5-20 % par rapport à la quantité totale des atomes d'oxygène, des atomes de carbone et des atomes de silicium et une région partielle ayant une concentration d'atomes d'oxygène de 1-15 %, une concentration d'atomes de carbone de 72-87 % et une concentration d'atomes de silicium de 7-18 %. L'invention porte également sur un objet moulé ayant une couche barrière aux gaz obtenue par injection d'ions dans une couche contenant le composé polysilane ; un procédé de fabrication de l'objet moulé ; un élément pour des dispositifs électroniques qui comprend l'objet moulé ; et un dispositif électronique équipé de l'élément pour des dispositifs électroniques. L'objet moulé a d'excellentes propriétés de barrière aux gaz, une excellente résistance à la flexion, une excellente adhésion et un excellent caractère lisse de surface.
(JA) 本発明は、O原子、C原子及びSi原子を含む材料から構成されてなるガスバリア層を有する成形体であって、前記ガスバリア層が、表面から深さ方向に向かって、層中におけるO原子の存在割合が漸次減少し、C原子の存在割合が漸次増加する領域を有するものであり、前記領域が、O原子、C原子及びSi原子の存在量全体に対する、O原子の存在割合が20~55%、C原子の存在割合が25~70%、Si原子の存在割合が5~20%の部分領域と、O原子の存在割合が1~15%、C原子の存在割合が72~87%、Si原子の存在割合が7~18%の部分領域とを含むものである成形体;ポリシラン化合物を含む層に、イオンが注入されて得られるガスバリア層を有する成形体;その製造方法;この成形体からなる電子デバイス用部材;及びこの電子デバイス用部材を備える電子デバイス;である。本発明によれば、ガスバリア性、耐折り曲げ性、密着性及び表面平滑性に優れる成形体、その製造方法、電子デバイス用部材、及び電子デバイスが提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)