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1. WO2010134542 - スルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法

公開番号 WO/2010/134542
公開日 25.11.2010
国際出願番号 PCT/JP2010/058440
国際出願日 19.05.2010
IPC
C01B 33/146 2006.01
C化学;冶金
01無機化学
B非金属元素;その化合物
33けい素;その化合物
113酸化けい素;その水和物
12シリカ;その水和物,例.うろこ状けい酸
14コロイド状シリカ,例.ディスパージョン,ゲル,ゾル
146ゾルの後処理
CPC
C01B 33/146
CCHEMISTRY; METALLURGY
01INORGANIC CHEMISTRY
BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; ; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
33Silicon; Compounds thereof
113Silicon oxides; Hydrates thereof
12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
146After-treatment of sols
C09G 1/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GPOLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH; SKI WAXES
1Polishing compositions
02containing abrasives or grinding agents
C09K 3/1436
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1436Composite particles, e.g. coated particles
C09K 3/1463
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
14Anti-slip materials; Abrasives
1454Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
1463Aqueous liquid suspensions
H01L 21/02024
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
02002Preparing wafers
02005Preparing bulk and homogeneous wafers
02008Multistep processes
0201Specific process step
02024Mirror polishing
出願人
  • 扶桑化学工業株式会社 FUSO CHEMICAL CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 天内 康人 AMANAI, Yasuhito [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 日野 洋輔 HINO, Yousuke [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 柳澤 孝郎 YANAGISAWA, Takao [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 天内 康人 AMANAI, Yasuhito
  • 日野 洋輔 HINO, Yousuke
  • 柳澤 孝郎 YANAGISAWA, Takao
代理人
  • 特許業務法人三枝国際特許事務所 Saegusa & Partners
優先権情報
2009-12438422.05.2009JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SULFONIC ACID-MODIFIED AQUEOUS ANIONIC SILICA SOL AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) SOL SILICEUX ANIONIQUE ET AQUEUX MODIFIÉ PAR DE L'ACIDE SULFONIQUE, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) スルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法
要約
(EN)
Disclosed is a sulfonic acid-modified aqueous anionic silica sol which is highly stable under acidic conditions, while having a low metal impurity content and good filtration properties. Also disclosed is a method for producing the sulfonic acid-modified aqueous anionic silica sol. Specifically disclosed are: a method for producing a sulfonic acid-modified aqueous anionic silica sol, wherein a silane coupling agent having a functional group which can be chemically converted into a sulfonic acid group is added to colloidal silica, and then the functional group is converted into a sulfonic acid group; and a sulfonic acid-modified aqueous anionic silica sol which is obtained by the method and has a zeta-potential of not more than -15 mV in an acidic environment with a pH of 2 or more.
(FR)
La présente invention concerne un sol siliceux anionique et aqueux modifié par de l'acide sulfonique, qui est très stable dans des conditions acides, tout en possédant une faible teneur en impuretés métalliques et de bonnes propriétés de filtration. L'invention concerne également un procédé de production du sol siliceux anionique et aqueux modifié par de l'acide sulfonique. L'invention concerne plus précisément : un procédé de production d'un sol siliceux anionique et aqueux modifié par de l'acide sulfonique, dans lequel un agent de couplage de type silane renfermant un groupe fonctionnel qui peut être chimiquement converti en groupe acide sulfonique est ajouté à de la silice colloïdale, puis le groupe fonctionnel est converti en groupe acide sulfonique ; et un sol siliceux anionique et aqueux modifié par de l'acide sulfonique, qui est obtenu par ledit procédé et présente un potentiel zêta n'excédant pas -15 mV dans un environnement acide à un pH de 2 ou plus.
(JA)
 本発明は、酸性条件下での安定性が高く、金属不純物の含有量が低く、しかも濾過性が良好であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法を提供する。 本発明は、具体的には、コロイダルシリカに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を添加した後、前記官能基をスルホン酸基に変換するスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾルの製造方法、及びそれにより得られるpH2以上の酸性においてゼータ電位が-15mV以下であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾルを提供する。
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