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World Intellectual Property Organization
1. (WO2010134176) 凹凸パターン形成方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/134176    国際出願番号:    PCT/JP2009/059287
国際公開日: 25.11.2010 国際出願日: 20.05.2009
H01L 21/3065 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARIGA Tomotaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OOSAWA Yuuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITO Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUROSAKI Yoshinari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASHIWADA Saori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRAOKA Toshiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AMANO Minoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YANAGI Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARIGA Tomotaka; (JP).
OOSAWA Yuuichi; (JP).
ITO Junichi; (JP).
KUROSAKI Yoshinari; (JP).
HIRAOKA Toshiro; (JP).
AMANO Minoru; (JP).
YANAGI Satoshi; (JP)
代理人: YOSHITAKE Kenji; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
(JA) 凹凸パターン形成方法
要約: front page image
(EN)Dropping of shoulder portions of a protruding section of an uneven pattern is suppressed as much as possible. A method for forming an uneven pattern is provided with: a step of forming a guide pattern (6) provided with a pattern having a protruding section on base materials (2, 4) whereupon the uneven pattern is to be formed; a step of forming, on the guide pattern, a formed layer having a laminated structure wherein a first layer (8), which contains at least one element selected from among a group composed of a first metal element and metalloid elements, and a second layer (10), which contains a second metal element different from the first metal element, are laminated; a step of selectively leaving the formed layer only on a side portion of the protruding section by etching the formed layer; a step of removing the guide pattern; and a step of forming the uneven pattern on the base material by etching the base material by using the left formed layer as a mask.
(FR)La présente invention concerne la suppression la plus importante possible de la baisse de parties d'épaule d'une section en saillie d'un modèle irrégulier. La présente invention porte en particulier sur un procédé de formation d'un modèle irrégulier comprenant les étapes suivantes : une étape de formation d'un modèle de guide (6) pourvu d'un modèle présentant une section en saillie sur des matériaux de base (2, 4), le modèle irrégulier devant être formé sur lesdits matériaux de base ; une étape de formation, sur le modèle de guide, d'une couche formée dotée d'une structure stratifiée, au cours de laquelle une première couche (8) (contenant au moins un élément sélectionné dans un groupe composé d'un premier élément métallique et d'éléments métalloïdes) et une seconde couche (10) (contenant un second élément métallique différent du premier élément métallique) sont stratifiées ; une étape consistant à laisser sélectivement la couche formée uniquement sur une partie latérale de la section en saillie par gravure de la couche formée ; une étape de retrait du modèle de guide ; et une étape de formation du modèle irrégulier sur le matériau de base, par gravure dudit matériau de base au moyen de la couche formée ainsi laissée, utilisée en tant que masque.
(JA)[課題]凹凸パターンの凸部の肩落ちを可及的に抑制することを可能にする。 [解決手段]凹凸パターンが形成される基材2,4上に凸部を有するパターンを備えたガイドパターン6を形成する工程と、第1の金属元素および類金属元素から選択される少なくとも1つの元素を含む第1の層8と、前記第1の金属元素と異なる第2の金属元素を含む第2の層10とが積層された積層構造を有する形成層をガイドパターン上に形成する工程と、形成層をエッチングすることで凸部の側部にのみ形成層を選択的に残置する工程と、ガイドパターンを除去する工程と、残置された形成層をマスクとして基材をエッチングすることにより基材に凹凸パターンを形成する工程と、を備えていることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)