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1. (WO2010134129) 表面層形成方法及び耐エロージョン部品の製造方法並びに蒸気タービン翼
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/134129    国際出願番号:    PCT/JP2009/002230
国際公開日: 25.11.2010 国際出願日: 20.05.2009
IPC:
C23C 26/00 (2006.01), F01D 5/28 (2006.01), F01D 25/00 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310 (JP) (米国を除く全ての指定国).
GOTO, Akihiro [--/JP]; (JP) (米国のみ).
TERAMOTO, Hiroyuki [--/JP]; (JP) (米国のみ).
SUMI, Nobuyuki [--/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Yoshikazu [--/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: GOTO, Akihiro; (JP).
TERAMOTO, Hiroyuki; (JP).
SUMI, Nobuyuki; (JP).
NAKANO, Yoshikazu; (JP)
代理人: TAKAHASHI, Shogo; c/o Mitsubishi Electric Corporation Corporate Intellectual Property Division, 7-3,Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR SURFACE LAYER FORMATION, PROCESS FOR PRODUCING EROSION RESISTANT COMPONENT, AND STEAM TURBINE BLADE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE COUCHE DE SURFACE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSANT RÉSISTANT À L'ÉROSION ET AUBE DE TURBINE À VAPEUR
(JA) 表面層形成方法及び耐エロージョン部品の製造方法並びに蒸気タービン翼
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for surface layer formation, comprising a step of disposing a member (2) in a working fluid (3) and a step of disposing a Si electrode (1) separated from the member (2) by a predetermined space and applying a predetermined voltage onto the member (2) to occur discharging and thus to supply a Si component from the Si electrode (1) to the member side, thereby forming a Si-containing surface layer. For the Si electrode (1), a member having a specific resistance of not more than 0.005 Ωcm is selected. A value equivalent to or larger than the value obtained by adding a voltage drop in the Si electrode to an arc potential during discharging, or a larger value is set as a discharging detection level. The occurrence of discharging between the Si electrode (1) and the member (2) is detected by detecting a lowering in voltage to a value of not more than the discharging detection level. After the elapse of a preset period of time from the occurrence of discharge, the application of the voltage is stopped. After pausing for a given period of time, the voltage is again applied. The above procedure is repeated (4, 7, 8). Thus, a Si-containing surface layer is formed on the surface of the member.
(FR)L'invention porte sur un procédé de formation d'une couche de surface, lequel procédé comprend une étape consistant à disposer un élément (2) dans un fluide de travail (3) et une étape consistant à disposer une électrode Si (1) séparée de l'élément (2) par un espace prédéterminé et à appliquer une tension prédéterminée sur l'élément (2) afin qu'il se produise une décharge et qu'ainsi soit délivré vers le côté de l'élément un composant en Si à partir de l'électrode Si (1), de façon à former ainsi une couche de surface contenant du Si. Pour l'électrode Si (1), on choisit un élément ayant une résistance spécifique non supérieure à 0,005 Ω/cm. On établit comme niveau de détection de décharge une valeur équivalente à ou supérieure à la valeur obtenue par addition d'une chute de tension dans l'électrode Si sur un potentiel d'arc lors de la décharge, ou une valeur supérieure est établie comme un. On détecte l'apparition d'une décharge entre l'électrode Si (1) et l'élément (2) par détection d'une diminution de la tension jusqu'à une valeur non supérieure au niveau de détection de décharge. Après écoulement d'une période de temps préétablie à partir de l'apparition de la décharge, on arrête l'application de la tension. Après interruption pendant une période de temps donnée, on applique à nouveau la tension. On répète le processus ci-dessus (4, 7, 8). On forme ainsi une couche de surface contenant du Si sur la surface de l'élément.
(JA) 加工液(3)中に部材(2)を配置する工程と、該部材(2)に対し、Si電極(1)を所定間隙離間して配置し、所定の電圧を印加して放電を発生させることで前記Si電極(1)からSi成分を部材側に供給し、Si含有表面層を形成する工程からなる表面層形成方法であって、前記Si電極(1)は、0.005Ωcm以下の比抵抗を有する部材を選定し、放電中のアーク電位に前記Si電極での電圧降下を加えた値以上の値を放電検出レベルと設定し、該放電検出レベル以下に電圧低下を検出することでSi電極(1)と部材(2)との間に放電が発生したことを検出し、放電発生から予め設定した所定時間経過後に電圧印加を停止し、一定時間休止後、再び電圧を印加することを繰り返す(4,7,8)ことにより部材表面にSiを含む表面層を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)