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1. (WO2010131665) X線反射率法を用いた積層体の層構造解析方法及び装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/131665    国際出願番号:    PCT/JP2010/057994
国際公開日: 18.11.2010 国際出願日: 12.05.2010
IPC:
G01N 23/201 (2006.01), G01B 15/02 (2006.01)
出願人: FUJII yoshikazu [JP/JP]; (JP)
発明者: FUJII yoshikazu; (JP)
代理人: FUJIMOTO kenji; 11-14-801,Seiryodai 5-chome,Tarumi-ku,Kobe-shi, Hyogo 6550038 (JP)
優先権情報:
2009-119317 15.05.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD AND DEVICE FOR ANALYZING LAYER STRUCTURE OF MULTILAYER BODY USING X-RAY REFLECTANCE METHOD
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT L'ANALYSE D'UNE STRUCTURE DE COUCHE D'UN CORPS MULTICOUCHE METTANT EN ŒUVRE UNE METHODE DE REFLECTANCE DE RAYONS X
(JA) X線反射率法を用いた積層体の層構造解析方法及び装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method and device for accurately analyzing the layer structure of a multilayer body using an X-ray reflectance method. The method for analyzing the layer structure of a multilayer body using an X-ray reflectance method is provided with an irradiation step of irradiating a sample which is, for example, a multilayer film with X-ray from an X-ray source, a detection step of detecting X-rays reflected from the sample by means of a detector, a measurement step of measuring the X-ray reflectance which is the ratio of the detected X-rays to the applied X-ray by means of a measurement unit, and an analysis step of analyzing the measured X-ray reflectance by an analyzer in consideration of the decrease in the interference component produced by the interference between the reflected X-ray from the surface or the interface of the sample and the transmitted X-rays due to the diffuse scattering that X-ray are scattered at the surface or the interface of the sample by the irregularity of the surface or the interface in directions other than the direction of the specular when there is a surface roughness or an interface roughness in the sample.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif permettant l'analyse précise d'une structure de couche d'un corps multicouche mettant en œuvre une méthode de réflectance de rayons X. Le procédé pour l'analyse de la structure de couche d'un corps multicouche mettant en œuvre une méthode de réflectance de rayons X comprend une étape d'irradiation d'un échantillon qui est, par exemple, un film multicouche avec un rayon X provenant d'une source de rayons X; une étape de détection pour la détection de rayons X réfléchis depuis l'échantillon au moyen d'un détecteur; une étape de mesure pour mesurer la réflectance de rayons X qui est le rapport des rayons X détectés sur les rayons appliqués au moyen d'une unité de mesure; et une étape d'analyse pour analyser la réflectance de rayons X mesurée par un analyseur en tenant compte de la réduction dans la composante interférente produite par l'interférence entre les rayons X réfléchis depuis la surface ou l'interface de l'échantillon et les rayons X transmis en raison de la dispersion diffuse des rayons X qui sont diffusés à la surface ou l'interface de l'échantillon par l'irrégularité de la surface ou de l'interface dans des directions autres que la direction de réflexion spéculaire lorsqu'il existe une rugosité de surface ou une rugosité d'interface dans l'échantillon.
(JA) X線反射率法を用いて積層体の層構造を正確に解析することのできる方法及び装置を提供する。 このX線反射率法を用いた積層体の層構造解析方法は、例えば多層膜である試料にX線源からX線を照射する照射工程と、該試料から反射されるX線を検出器で検出する検出工程と、この検出されたX線の前記照射されたX線に対する割合であるX線反射率を測定器で測定する測定工程と、解析器で、前記試料に表面粗さ又は界面粗さがある場合において該試料の表面又は界面において該表面又は界面の凹凸により鏡面反射方向以外の方向にX線が散乱する、散漫散乱に伴う該表面又は界面での反射X線と透過X線の干渉成分の減少を加味して、前記測定されたX線反射率を解析する解析工程とを備えている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)