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1. (WO2010131662) TiO-SiOガラス体の製造方法及び熱処理方法、TiO-SiOガラス体、EUVL用光学基材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/131662    国際出願番号:    PCT/JP2010/057977
国際公開日: 18.11.2010 国際出願日: 11.05.2010
IPC:
C03B 32/00 (2006.01), C03B 20/00 (2006.01), C03B 25/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01), C03C 3/076 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Asahi Glass Company, Limited. [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOIKE Akio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MITSUMORI Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IWAHASHI Yasutomi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OGAWA Tomonori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOIKE Akio; (JP).
MITSUMORI Takahiro; (JP).
IWAHASHI Yasutomi; (JP).
OGAWA Tomonori; (JP)
代理人: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2009-116488 13.05.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING TIO2-SIO2 GLASS BODY, METHOD FOR HEAT-TREATING TIO2-SIO2 GLASS BODY, TIO2-SIO2 GLASS BODY, AND OPTICAL BASE FOR EUVL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CORPS EN VERRE COMPRENANT DU TIO2-SIO2, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT À LA CHALEUR D'UN CORPS EN VERRE COMPRENANT DU TIO2-SIO2, CORPS EN VERRE COMPRENANT DU TIO2-SIO2, ET BASE OPTIQUE POUR LA LEUV
(JA) TiO-SiOガラス体の製造方法及び熱処理方法、TiO-SiOガラス体、EUVL用光学基材
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a TiO2-SiO2 glass body, which comprises a step in which a TiO2-SiO2 glass body after transparent vitrification is maintained within a temperature range from T1-90 (°C) to T1-220 (°C) for 120 hours or more, with T1 (°C) being the annealing point of the TiO2-SiO2 glass body after transparent vitrification.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un corps en verre comprenant du TiO2-SiO2, qui comprend une étape dans laquelle un corps en verre comprenant du TiO2-SiO2 ayant subi une vitrification transparente est maintenu dans une plage de température allant de T1-90 (°C) à T1-220 (°C) pendant 120 heures ou plus, T1 (°C) correspondant à la température supérieure de recuit du corps en verre comprenant du TiO2-SiO2 après vitrification transparente.
(JA) 本発明は、透明ガラス化後のTiO-SiOガラス体の徐冷点をT(℃)とするとき、透明ガラス化後のガラス体をT-90(℃)からT-220(℃)までの温度域に120時間以上保持する工程を含む、TiO-SiOガラス体の製造方法に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)