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1. (WO2010131632) 液晶高分子化合物及びリソグラフィー用フォトマスク
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/131632    国際出願番号:    PCT/JP2010/057911
国際公開日: 18.11.2010 国際出願日: 10.05.2010
IPC:
C08F 20/36 (2006.01), G03F 1/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE EDUCATIONAL FOUNDATION ADMINISTRATIVE ORGANIZATION [JP/JP]; 1-3, Kagurazaka, Shinjuku-ku, Tokyo 1628601 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKANO, Kunihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMASHITA, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIKAMI, Yasuyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKANO, Kunihiko; (JP).
YAMASHITA, Takashi; (JP).
MIKAMI, Yasuyuki; (JP)
代理人: SHOBAYASHI, Masayuki; Sapia Tower, 1-7-12, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2009-114976 11.05.2009 JP
発明の名称: (EN) LIQUID CRYSTAL POLYMER COMPOUND AND PHOTOMASK FOR USE IN LITHOGRAPHY
(FR) COMPOSÉ POLYMÈRE CRISTAL LIQUIDE ET MASQUE PHOTOGRAPHIQUE DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ EN LITHOGRAPHIE
(JA) 液晶高分子化合物及びリソグラフィー用フォトマスク
要約: front page image
(EN)Disclosed is a liquid crystal polymer represented by formula (I). In formula (I), R represents a hydrogen atom or a methyl group, n represents an integer of 1 to 20, m represents an integer of 3 or more, at least one of the X's represents a group containing a hydrophilic oxyethylene moiety, and the other X's each independently represent a hydrogen atom, an alkoxy group, a fluorine group, a cyano group, or a nitro group. In the monomer of the compound, a hydrophobic moiety and a hydrophilic moiety are regularly incorporated, and therefore, the compound can be synthesized by usual radical polymerization. Further, the compound can form a so-called nano-phase separation structure by annealing at a liquid crystal temperature and irradiation with polarized and unpolarized light and the oriented state thereof can be freely controlled, and therefore, the compound can be used as a constituent material of a photomask for use in lithography, etc.
(FR)L'invention porte sur un polymère cristal liquide représenté par la formule (I). Dans la formule (I), R représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, n représente un entier de 1 à 20, m représente un entier supérieur ou égal à 3, au moins l'un des X représente un groupe contenant une fraction oxyéthylène hydrophile et les autres X représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alcoxy, un groupe fluor, un groupe cyano ou un groupe nitro. Dans le monomère du composé, une fraction hydrophobe et une fraction hydrophile sont régulièrement incorporées et, par conséquent, le composé peut être synthétisé par polymérisation radicalaire usuelle. En outre, le composé permet de former une structure dite à séparation de nanophases par recuit à une température de cristaux liquides et irradiation avec de la lumière polarisée et non polarisée et l'état orienté de celui-ci peut être librement ajusté et, par conséquent, le composé peut être utilisé comme matériau constitutif d'un masque photographique destiné à être utilisé en lithographie, etc.
(JA) 本発明に係る液晶高分子は下記式(I)で表される。式(I)中、Rは水素原子またはメチル基を示し、nは1~20の整数を示し、mは3以上の整数を示し、Xの少なくとも1つは親水性のオキシエチレン部位を含む基を示し、それ以外のXはそれぞれ水素原子、アルコキシ基、フッ素基、シアノ基、またはニトロ基を示す。化合物のモノマー中に疎水部位と親水部位とを規則的に組み込んでいるため、汎用のラジカル重合によって合成が可能となる。また、液晶温度下でのアニーリング処理、偏光及び非偏光の照射によりいわゆるナノ相分離構造を発現し、配向状態を自在に制御することが可能となるので、リソグラフィー用フォトマスク等の構成材料として使用することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)