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1. (WO2010131495) 液晶表示装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/131495    国際出願番号:    PCT/JP2010/050621
国際公開日: 18.11.2010 国際出願日: 20.01.2010
IPC:
G02F 1/1343 (2006.01)
出願人: Sharp Kabushiki Kaisha [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HARA Yoshihito [JP/--]; (米国のみ).
NAKATA Yukinobu [JP/--]; (米国のみ).
WATANABE Keizoh [JP/--]; (米国のみ)
発明者: HARA Yoshihito; .
NAKATA Yukinobu; .
WATANABE Keizoh;
代理人: YASUTOMI & Associates; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
優先権情報:
2009-116787 13.05.2009 JP
発明の名称: (EN) LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
(JA) 液晶表示装置及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a liquid crystal display device of the vertical alignment type that applies voltage to liquid crystal using comb-shaped electrodes, having a high contrast, a high white brightness, and excellent display characteristics and capable of reducing alignment failure of the liquid crystal occurring at ends of the electrodes. Also disclosed is a method for manufacturing the same. Specifically disclosed is a method for manufacturing a liquid crystal display device, including electrodes for applying voltage to a liquid crystal layer held between a pair of substrates, which comprises steps of forming a resist pattern by exposing a resist film formed on a conductive film to light via a photomask and forming an electrode pattern by etching the conductive film via the resist pattern. The photomask has a light shielding or light transmitting pattern with a trunk and a plurality of branches extending from the trunk, and the branches have wide portions at the ends thereof.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'affichage à cristaux liquides du type à alignement vertical, qui applique une tension à un cristal liquide à l'aide d'électrodes en forme de peigne, caractérisé par un contraste élevé, une forte luminosité des blancs et d'excellentes caractéristiques d'affichage, et capable de réduire les défauts d'alignement du cristal liquide se produisant aux extrémités des électrodes. L'invention concerne également un procédé pour sa fabrication. Plus précisément, l'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides comprenant des électrodes destinées à appliquer une tension à une couche de cristaux liquides maintenue entre une paire de substrats, ledit procédé comportant les étapes consistant à former un motif en résine photosensible en exposant un film de résine photosensible formé sur un film conducteur à une lumière via un masque photographique et à former un motif d'électrode par attaque chimique du film conducteur au moyen du motif en résine photosensible. Le masque photographique porte un motif bloquant ou transmettant la lumière, comprenant un tronc et une pluralité de branches s'étendant à partir du tronc, les branches présentant des parties élargies à leurs extrémités.
(JA)本発明は、くし歯状電極を用いて液晶に電圧を印加する垂直配向型の液晶表示装置において、電極の先端で生じる液晶の配向不良を低減でき、高いコントラスト及び白輝度を有し、表示特性に優れた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板間に挟持された液晶層に電圧を印加するための電極が設けられた液晶表示装置の製造方法であって、導電膜上に形成されたレジスト膜に対してフォトマスクを介して露光処理するレジストパターン形成工程と、上記レジストパターンを介して上記導電膜をエッチング処理する電極パターン形成工程とを含み、上記フォトマスクは、幹部と、上記幹部から分岐した複数の枝部とを備える遮光又は透光パターンを備え、上記枝部は、先端に幅広部が設けられている液晶表示装置の製造方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)