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1. (WO2010126006) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/126006    国際出願番号:    PCT/JP2010/057367
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 26.04.2010
IPC:
G03F 7/031 (2006.01), C07D 241/42 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), H05K 3/00 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY [CN/CN]; 800 Dongchuan Road, Shanghai, 200240 (CN) (米国を除く全ての指定国).
MIYASAKA Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAJI Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YIN Jie [CN/CN]; (CN) (米国のみ).
JIANG XueSong [CN/CN]; (CN) (米国のみ).
SUN Lida [CN/CN]; (CN) (米国のみ)
発明者: MIYASAKA Masahiro; (JP).
KAJI Makoto; (JP).
YIN Jie; (CN).
JIANG XueSong; (CN).
SUN Lida; (CN)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl. 1-1, Marunouchi 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2009-111076 30.04.2009 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT UTILIZING THE COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, ÉLÉMENT PHOTOSENSIBLE UTILISANT LA COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE CARTE DE CIRCUITS IMPRIMÉS
(JA) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition comprising a binder polymer, a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and at least one pyrazine compound selected from the group consisting of compounds each having a structure represented by formula (1), compounds each having a structure represented by formula (2) and compounds each having a structure represented by formula (3). [In formulae (1) to (3), R1 to R12 independently represent a univalent organic group containing an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or a heterocyclic group, wherein R1 and R2, R3 and R4, R5 and R6, R7 and R8, R9 and R10, or R11 and R12 may be bound to each other and, together with two carbon atoms contained in a pyrazine skeleton, form a ring. In formula (2), X and Y independently represent an atom group that constitutes an aromatic ring formed together with two carbon atoms contained in a pyrazine skeleton and having a monocyclic or condensed polycyclic structure. In formula (3), Z represents an atom group that constitutes an aromatic ring having a monocyclic or condensed polycyclic structure and formed together with four carbon atoms contained in a pyrazine skeleton or a hetero ring.
(FR)L'invention porte sur une composition de résine photosensible comprenant un polymère liant, un composé photopolymérisable ayant une liaison à insaturation éthylénique et au moins un composé pyrazine choisi dans le groupe constitué par des composés ayant chacun une structure représentée par la formule (1), des composés ayant chacun une structure représentée par la formule (2) et des composés ayant chacun une structure représentée par la formule (3). [Dans les formules (1) à (3), R1 à R12 représentent indépendamment un groupe organique univalent contenant un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe phényle, un groupe naphtyle ou un groupe hétérocyclique, R1 et R2, R3 et R4, R5 et R6, R7 et R8, R9 et R10, ou R11 et R12 pouvant être liés l'un à l'autre et, conjointement avec deux atomes de carbone contenus dans un squelette de pyrazine, former un noyau. Dans la formule (2), X et Y représentent indépendamment un groupe atomique qui constitue un noyau aromatique formé conjointement avec deux atomes de carbone contenus dans un squelette de pyrazine et ayant une structure monocyclique ou polycyclique condensée. Dans la formule (3), Z représente un groupe atomique qui constitue un noyau aromatique ayant une structure monocyclique ou polycyclique condensée et formée conjointement avec quatre atomes de carbone contenus dans un squelette de pyrazine ou un noyau hétéro.
(JA)バインダポリマーと、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、下記式(1)、(2)、又は(3)で表される構造を有する化合物からなる群より選択される少なくとも1種のピラジン化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。[式(1)~(3)中、R1~R12はそれぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基又は複素環式基を含む1価の有機基を示し、R1とR2、R3とR4、R5とR6、R7とR8、R9とR10、又は、R11とR12とは、互いに結合してピラジン骨格の2つの炭素原子と共に環を形成していてもよい。式(2)中、X及びYは、それぞれ独立にピラジン骨格の2つの炭素と共に形成された単環構造又は縮合多環構造の芳香族環を構成する原子群を示し、式(3)中、Zは、ピラジン骨格の4つの炭素と共に形成された、単環構造若しくは縮合多環構造の芳香族環、又は、複素環を構成する原子群を示す。]
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)