WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2010125995) プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/125995    国際出願番号:    PCT/JP2010/057339
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 26.04.2010
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISSHIKI, Kazuhiko; (米国のみ).
KISHIMOTO, Katsushi; (米国のみ)
発明者: ISSHIKI, Kazuhiko; .
KISHIMOTO, Katsushi;
代理人: FUKAMI, Hisao; Fukami Patent Office, p.c., Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2009-110831 30.04.2009 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA ET APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
要約: front page image
(EN)A first step, in which AC power having a first value lower than the value necessary for performing the plasma processing is supplied for a certain period of time, is performed in order to generate a plasma discharge between a cathode electrode (102) and an anode electrode (103). After the first step, a second step, in which AC power having a value higher than the first value is supplied, is performed. The second step includes a step in which AC power having a second value that is sufficient for performing the plasma processing is supplied for a certain period of time. After the second step, a third step, in which AC power having a third value higher than the second value is supplied for a certain period of time, is performed.
(FR)Selon l'invention, une première étape est effectuée, dans laquelle une alimentation en courant alternatif, ayant une première valeur inférieure à la valeur nécessaire pour exécuter un traitement au plasma, est distribuée pendant une certaine période de temps, afin de générer une décharge de plasma entre une électrode de cathode (102) et une électrode d'anode (103). Après la première étape, une seconde étape est effectuée, dans laquelle une alimentation en courant alternatif, ayant une valeur supérieure à la première valeur, est distribuée. La seconde étape comprend une étape dans laquelle une alimentation en courant alternatif, ayant une seconde valeur suffisante pour exécuter le traitement au plasma, est distribuée pendant une certaine période de temps. Après la seconde étape, une troisième étape est effectuée, dans laquelle une alimentation en courant alternatif, ayant une troisième valeur supérieure à la seconde valeur, est distribuée pendant une certaine période de temps.
(JA) カソード電極(102)およびアノード電極(103)の間にプラズマ放電を発生させるために、プラズマ処理を行うのに必要な値よりも小さい第1の値を有する交流電力を一定時間供給する第1の工程が行なわれる。第1の工程後に、第1の値よりも大きい交流電力を供給する第2の工程が行なわれる。第2の工程は、プラズマ処理を行い得る第2の値を有する交流電力を一定時間供給する工程を含む。第2の工程後に、第2の値よりも大きい第3の値を有する交流電力を一定時間供給する第3の工程が行なわれる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)