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1. (WO2010125942) シリコンスラッジの洗浄方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/125942    国際出願番号:    PCT/JP2010/056953
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 19.04.2010
IPC:
C01B 33/037 (2006.01), C01B 33/02 (2006.01)
出願人: SUMCO CORPORATION [JP/JP]; 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058634 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKITA Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKITA Kenji; (JP)
代理人: ABE Itsurou; ABE International Patent Office, Complete Sakaimachi BLDG. 403, 9-6, Sakaimachi 1-chome, Kokurakita-ku, Kitakyushu-shi, Fukuoka 8020005 (JP)
優先権情報:
2009-109694 28.04.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR CLEANING SILICON SLUDGE
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE SUSPENSION DE SILICIUM
(JA) シリコンスラッジの洗浄方法
要約: front page image
(EN)After removing organic matters and forming a silicon oxide film by ozone-oxidizing a silicon powder in a silicon sludge, the ozone is removed and the resulting sludge is dispersed into hydrochloric acid for dissolving metal impurities thereinto. Then, the supernatant liquid of the hydrochloric acid is removed, and the silicon oxide film is dissolved with hydrofluoric acid after being rinsed with ultrapure water, so that the metal impurities in the surface layer of the silicon powder are removed.
(FR)Cette invention concerne l'élimination de matières organiques et la formation d'une pellicule d'oxyde de silicium par oxydation à l'ozone d'une poudre de silicium dans une suspension de silicium, l'ozone étant ensuite éliminé et la suspension résultante dispersée dans de l'acide chlorhydrique pour dissoudre les impuretés métalliques. Le liquide surnageant de l'acide chlorhydrique est alors éliminé, et la pellicule d'oxyde de silicium est dissoute avec de l'acide fluorhydrique après avoir été rincée avec de l'eau ultrapure, de sorte que les impuretés métalliques présentes dans la couche superficielle de la poudre de silicium soient éliminées.
(JA) シリコンスラッジのシリコン粉をオゾン酸化させ、有機物の除去とシリコン酸化膜の形成後、オゾンを除去し、塩酸中への分散で金属不純物を溶解する。次に塩酸の上澄み液を除去し、超純水でリンス後、シリコン酸化膜をフッ酸で溶解し、シリコン粉の表層中の金属不純物を除去する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)