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1. (WO2010125847) 液晶パネルの製造方法、液晶パネル用ガラス基板およびこれを備えた液晶パネル
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/125847    国際出願番号:    PCT/JP2010/052849
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 24.02.2010
IPC:
G02F 1/1368 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1345 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAZAKI, Ikushi; (米国のみ)
発明者: YAMAZAKI, Ikushi;
代理人: FUKAMI, Hisao; Fukami Patent Office, p.c., Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2009-110689 30.04.2009 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL, GLASS SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL, AND LIQUID CRYSTAL PANEL PROVIDED WITH SAME
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES, SUBSTRAT EN VERRE POUR PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES ET PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES DOTÉ DE CE SUBSTRAT
(JA) 液晶パネルの製造方法、液晶パネル用ガラス基板およびこれを備えた液晶パネル
要約: front page image
(EN)A method for manufacturing a liquid crystal panel is provided with a step for forming a gate electrode (41) of a TFT (40) and a lower layer (51) of a marking pad (50) simultaneously, a step for forming a gate insulating film (42) of the TFT (40) and a protective insulating film (52) simultaneously, the protective insulating film covering the lower layer (51), a step for performing various kinds of film formation processing and patterning processing while the lower layer (51) is covered with the protective insulating film (52), a step for exposing the main surface except the peripheral edge of the lower layer (51) by removing at least part of the protective insulating film (52), a step for forming an upper layer (56) of the marking pad (50) and a pixel electrode (46) simultaneously, the upper layer covering the main surface of the lower layer (51) except the portion covered with the protective insulating film (52), and a step for performing marking by providing a through-hole (58) by applying a laser beam (100) to the marking pad (50). Consequently, the marking pad which is provided in a glass substrate for the liquid crystal panel and includes a metal film can be prevented from corroding in a production process.
(FR)Un procédé de fabrication d'un panneau à cristaux liquides selon l'invention comprend une étape de formation simultanée d'une électrode grille (41) d'un TFT (40) et d'une couche inférieure (51) d'un tampon de marquage (50), d'une étape de formation simultanée d'un film isolant de grille (42) du TFT (40) et d'un film isolant protecteur (52), le film isolant protecteur couvrant la couche inférieure (51), une étape de réalisation de diverses sortes de traitement de formation de film et de traitement de modelage des contours alors que la couche inférieure (51) est couverte du film isolant protecteur (52), une étape d'exposition de la surface principale à l'exception du bord périphérique de la couche inférieure (51) en retirant au moins une partie du film isolant protecteur (52), une étape de formation simultanée d'une couche supérieure (56) du tampon de marquage (50) et d'une électrode pixel (46), la couche supérieure couvrant la surface principale de la couche inférieure (51) à l'exception de la partie couverte par le film isolant protecteur (52), et une étape de réalisation du marquage en prévoyant un trou traversant (58) par application d'un faisceau laser (100) sur le tampon de marquage (50). Ainsi, il est possible d'empêcher lors d'un procédé de production la corrosion du tampon de marquage qui est prévu dans un substrat en verre pour le panneau à cristaux liquide et comprend un film métallique.
(JA) 本発明に基づく液晶パネルの製造方法は、TFT(40)のゲート電極(41)とマーキングパッド(50)の下部層(51)とを同時に形成する工程と、TFT(40)のゲート絶縁膜(42)と下部層(51)を覆う保護絶縁膜(52)とを同時に形成する工程と、下部層(51)を保護絶縁膜(52)によって覆った状態のまま各種の成膜処理およびパターニング処理を行なう工程と、保護絶縁膜(52)の少なくとも一部を除去することで下部層(51)の周縁を除く主表面を露出させる工程と、保護絶縁膜(52)によって覆われていない部分の下部層(51)の主表面を覆うマーキングパッド(50)の上部層(56)と画素電極(46)とを同時に形成する工程と、マーキングパッド(50)にレーザ光(100)を照射して貫通孔(58)を設けることでマーキングする工程とを備える。これにより、液晶パネル用ガラス基板に設けられた金属膜を含むマーキングパッドが生産過程において腐食することを防止できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)