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1. (WO2010125813) 露光方法及びデバイス製造方法、並びに重ね合わせ誤差計測方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/125813    国際出願番号:    PCT/JP2010/003043
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 28.04.2010
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MORITA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRUKAWA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJII, Koichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MORITA, Yasuhiro; (JP).
HIRUKAWA, Shigeru; (JP).
FUJII, Koichi; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
優先権情報:
2009-110627 30.04.2009 JP
2009-110641 30.04.2009 JP
2009-110654 30.04.2009 JP
2010-102399 27.04.2010 JP
2010-102434 27.04.2010 JP
2010-102458 27.04.2010 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND METHOD FOR MEASURING SUPERPOSITION ERROR
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF, ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UNE ERREUR DE SUPERPOSITION
(JA) 露光方法及びデバイス製造方法、並びに重ね合わせ誤差計測方法
要約: front page image
(EN)The horizontal shifts (∆XAM) of an image of an alignment mark projected on a wafer are obtained with respect to a plurality of line widths (a-d) different from each other and a defocus quantity (∆Z), considering illumination conditions and the optical characteristics of a projection optical system, and the line widths of the alignment mark are optimized such that the average of the horizontal shifts (∆XAM) (horizontal shifts when ∆Z=0) and the fluctuation of the horizontal shifts (horizontal shift change within a range of focus error) are the smallest. Thus, an alignment mark having a small deformation even when the alignment mark is transferred in the defocused state can be designed.
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition dans lequel les décalages horizontaux (∆XAM) d'une image d'une marque d'alignement projetée sur une tranche sont obtenus par rapport à une pluralité de largeurs de ligne (a-d) différentes les unes des autres et une quantité de défocalisation (∆Z), tenant compte des conditions d'éclairage et des caractéristiques optiques d'un système optique de projection, et les largeurs de ligne de la marque d'alignement sont optimisées de telle manière que la moyenne des décalages horizontaux (∆XAM) (décalages horizontaux quand ∆Z = 0) et la fluctuation des décalages horizontaux (changement de décalage horizontal dans une plage d'erreur de focalisation) soient les plus petites. Donc, une marque d'alignement ayant une petite déformation même quand la marque d'alignement est transférée dans l'état de défocalisation peut être conçue.
(JA) 照明条件及び投影光学系の光学特性を考慮して、互いに異なる複数の線幅(a~d)及びデフォーカス量(ΔZ)について、ウエハに投影されるアライメントマークの像の横シフトΔXAMを求め、横シフトΔXAMの平均(ΔZ=0での横シフト)及びばらつき(フォーカス誤差の程度の範囲内での横シフトの変化)が最も小さくなるように、アライメントマークの線幅を最適化する。これにより、デフォーカス状態で転写されても変形の小さいアライメントマークを設計することが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)