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1. (WO2010125756) アーク式蒸発源及びこれを用いた皮膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/125756    国際出願番号:    PCT/JP2010/002712
国際公開日: 04.11.2010 国際出願日: 14.04.2010
IPC:
C23C 14/32 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01)
出願人: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO [JP/JP]; 10-26, Wakinohamacho 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TANIFUJI, Shinichi; (米国のみ).
YAMAMOTO, Kenji; (米国のみ).
FUJII, Hirofumi; (米国のみ).
KUROKAWA, Yoshinori; (米国のみ)
発明者: TANIFUJI, Shinichi; .
YAMAMOTO, Kenji; .
FUJII, Hirofumi; .
KUROKAWA, Yoshinori;
代理人: KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
優先権情報:
2009-109305 28.04.2009 JP
2010-024315 05.02.2010 JP
発明の名称: (EN) ARC EVAPORATION SOURCE AND METHOD FOR MANUFACTURING FILM USING SAME
(FR) SOURCE D'ÉVAPORATION À L'ARC ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM À L'AIDE DE CETTE DERNIÈRE
(JA) アーク式蒸発源及びこれを用いた皮膜の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is an arc evaporation source wherein film-forming speed is increased by inducing magnetic lines in the substrate direction. The arc evaporation source is provided with: at least one outer circumferential magnet (3), which is disposed such that the outer circumferential magnet surrounds the outer circumference of a target (2) and that the magnetization direction thereof is in the direction orthogonally intersecting the surface of the target (2); and a rear surface magnet (4) disposed on the rear surface side of the target (2). The rear surface magnet (4) has a non-ring-shaped first permanent magnet (4A) wherein the polarity thereof faces the same direction as the polarity of the outer circumferential magnet (3) and the magnetization direction of the rear surface magnet (4) is in the direction orthogonally intersecting the surface of the target (2).
(FR)La présente invention se rapporte à une source d'évaporation à l'arc, une vitesse de formation de film étant accrue par induction de lignes magnétiques en direction du substrat. La source d'évaporation à l'arc est pourvue : d'au moins un aimant circonférentiel externe (3), qui est disposé de telle sorte que l'aimant circonférentiel externe entoure la circonférence externe d'une cible (2) et que la direction de magnétisation de celui-ci soit dans la direction croisant orthogonalement la surface de la cible (2) ; et d'un aimant de surface arrière (4) disposé côté surface arrière de la cible (2). L'aimant de surface arrière (4) a un premier aimant permanent de forme non annulaire (4A), la polarité de celui-ci étant orientée dans la même direction que la polarité de l'aimant circonférentiel externe (3) et la direction de magnétisation de l'aimant de surface arrière (4) étant dans la direction croisant orthogonalement la surface de la cible (2).
(JA) アーク式蒸発源において、磁力線を基板方向に誘導して成膜速度を速くする。 ターゲット2の外周を取り囲むように設けられ、その磁化方向がターゲット2の表面と直交する方向に沿うように配置される少なくとも1つの外周磁石3と、ターゲット2の背面側に配置される背面磁石4とを備えている。背面磁石4は、その極性が外周磁石3の極性と同方向に向き、且つ、背面磁石4の磁化方向がターゲット2の表面と直交する方向に沿うように配置されている非リング状の第1の永久磁石4Aを有している。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)