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1. WO2010073795 - 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法

公開番号 WO/2010/073795
公開日 01.07.2010
国際出願番号 PCT/JP2009/067340
国際出願日 05.10.2009
IPC
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
G02B 19/00 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
19コンデンサー
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G02B 27/0966
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0938Using specific optical elements
095Refractive optical elements
0955Lenses
0966Cylindrical lenses
G03F 7/70091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
G03F 7/70191
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70191Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarization, phase or the like
出願人
  • 株式会社 ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 田中 裕久 TANAKA, Hirohisa [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 水野 恭志 MIZUNO, Yasushi [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 田中 裕久 TANAKA, Hirohisa
  • 水野 恭志 MIZUNO, Yasushi
代理人
  • 恩田 博宣 ONDA, Hironori
優先権情報
61/193,80224.12.2008US
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
要約
(EN)
An illumination optical system (13) includes: an optical integrator (26) which forms a predetermined light intensity distribution on an illumination pupil plane (27) in the illumination optical path of the illumination optical system (13) when an exposure light (EL) from a light source device (12) is incident; a transmission filter (64) which is arranged in a first adjustment region (63) and which has transmission factor characteristics changing in accordance with the position of the incident exposure light (EL); and a movement mechanism (70) which moves the transmission filter (64) in the optical axis direction in the first adjustment region (63).  The first adjustment region (63) is set further to the reticle (R) side than the optical integrator (26) and includes the illumination pupil plane (27) in the optical path direction of the illumination optical system (13).
(FR)
Un système optique d'éclairage (13) comprend : un intégrateur optique (26) qui effectue une distribution d'intensité lumineuse prédéterminée sur le plan d'une pupille d'éclairage (27) dans le chemin optique d'éclairage du système optique d'éclairage (13) quand une lumière d'exposition (EL) issue d'un dispositif formant source lumineuse (12) est incidente ; un filtre de transmission (64) qui est agencé dans une première zone d'ajustement (63) et qui comprend des caractéristiques de facteur de transmission qui changent en fonction de la position de la lumière d'exposition incidente (EL) ; et un mécanisme de déplacement (70) qui déplace le filtre de transmission (64) dans la direction de l'axe optique dans la première zone d'ajustement (63). La première zone d'ajustement (63) est disposée plus proche du réticule (R) que l'intégrateur optique (26) et elle comprend le plan de la pupille d'éclairage (27) dans la direction du chemin optique du système optique d'éclairage (13).
(JA)
照明光学系(13)は、光源装置(12)からの露光光ELが入射した場合に照明光学系(13)の照明光路内の照明瞳面(27)に所定の光強度分布を形成するオプティカルインテグレータ(26)と、オプティカルインテグレータ(26)よりもレチクル(R)側であって且つ照明光学系(13)の光軸方向において照明瞳面(27)を含んで設定される第1調整領域(63)内に配置され、入射する露光光(EL)の位置に応じて透過率特性が異なる透過フィルタ(64)と、透過フィルタ(64)を第1調整領域(63)内において光軸方向に沿って移動させる移動機構(70)と、を備えている。
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