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1. WO2010073360 - パターン測定装置及びパターン測定方法

公開番号 WO/2010/073360
公開日 01.07.2010
国際出願番号 PCT/JP2008/073708
国際出願日 26.12.2008
IPC
G01B 15/00 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
15波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置
H01J 37/22 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
22管と関連した光学または写真装置
H01L 21/66 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
CPC
G01B 15/00
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
15Measuring arrangements characterised by the use of wave or particle radiation
H01J 2237/22
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
22Treatment of data
H01J 2237/24578
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
245Detection characterised by the variable being measured
24571Measurements of non-electric or non-magnetic variables
24578Spatial variables, e.g. position, distance
H01J 2237/2817
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
28Scanning microscopes
2813characterised by the application
2817Pattern inspection
H01J 37/265
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
261Details
265Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
H01J 37/28
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
28with scanning beams
出願人
  • 株式会社アドバンテスト ADVANTEST CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 松本 純 MATSUMOTO, Jun [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 松本 純 MATSUMOTO, Jun
代理人
  • 岡本 啓三 OKAMOTO, Keizo
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PATTERN MEASURING APPARATUS AND PATTERN MEASURING METHOD
(FR) APPAREIL DE MESURE D'UN MOTIF ET PROCÉDÉ DE MESURE D'UN MOTIF
(JA) パターン測定装置及びパターン測定方法
要約
(EN)
Provided is a pattern measuring apparatus and a pattern measuring method which can correctly measure the length of a pattern even if the width of an edge portion of the pattern is narrower than a beam diameter. The pattern measuring apparatus is equipped with a beam intensity distribution creating section which scans a reference pattern with the edge portion formed at right angles using a charged particle beam to create a line profile and then creates the intensity distribution of a reference beam, an edge width detecting section which obtains a line profile of a model of patterns with the edge formed at various inclination angles using the intensity distribution of the reference beam and calculates the edge width of the model, considering an influence of the width of the reference beam, and a correspondence table creating section which calculates correction values for the edge positions from the calculated edge width and the model of patterns. The intensity distribution of the reference beam is created by synthesizing the portions of the intensity distributions on the side where no pattern is formed, at the rising point and the falling point of the reference pattern.
(FR)
L'invention concerne un appareil de mesure d'un motif et un procédé de mesure d'un motif, qui permettent de mesurer correctement la longueur d'un motif, même si la largeur d'une partie de bord du motif est plus étroite qu'un diamètre de faisceau. L'appareil de mesure d'un motif est équipé d'une section de création d'une distribution d'intensité d'un faisceau, qui balaye un motif de référence dont la partie de bord est formée à des angles droits en utilisant un faisceau de particules chargées pour créer un profil linéaire, puis qui crée la distribution d'intensité d'un faisceau de référence, une section de détection d'une largeur de bord, qui obtient un profil linéaire d'un modèle de motifs dont le bord est formé à divers angles d'inclinaison en utilisant la distribution d'intensité du faisceau de référence, et qui calcule la largeur de bord du modèle en prenant en compte l'influence de la largeur du faisceau de référence, et une section de création d'un tableau de correspondance, qui calcule des valeurs de correction pour les positions de bord à partir de la largeur de bord calculée et du modèle de motifs. La distribution d'intensité du faisceau de référence est créée en synthétisant les parties des distributions d'intensité du côté où aucun motif n'est formé, au point d'élévation et au point de chute du motif de référence.
(JA)
パターンのエッジ部分の幅がビーム径よりも狭い場合であっても正確にパターンの測長をすることのできる、パターン測定装置及びパターン測定方法を提供する。パターン測定装置は、エッジ部分が直角に形成された基準パターンに荷電粒子ビームを走査してラインプロファイルを作成し基準ビーム強度分布を作成するビーム強度分布作成部と、各種傾斜角度に形成されたエッジを含むパターンのモデルに対して基準ビームの強度分布を用いてラインプロファイルを求めて基準ビームの幅の影響を含んだエッジ幅を算出するエッジ幅検出部と、算出したエッジ幅とパターンのモデルからエッジ位置に対する補正値を算出し、エッジ幅と補正値とを関連付けた対応テーブルを作成する対応テーブル作成部とを備える。基準ビーム強度分布は基準パターンの立ち上がり点又は立下り点における強度分布の、パターンが形成されていない側の分布を合成して作成する。
他の公開
DE112008004172
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