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1. WO2010070896 - 真空処理装置及び真空搬送装置

公開番号 WO/2010/070896
公開日 24.06.2010
国際出願番号 PCT/JP2009/006919
国際出願日 16.12.2009
IPC
H01L 21/677 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
B65G 49/07 2006.01
B処理操作;運輸
65運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
G運搬または貯蔵装置,例.荷積みまたは荷あげ用コンベヤ;作業場コンベヤシステムまたは気体式チューブコンベヤ
49他の分類に属せず,特殊な目的に適用されることを特徴とする移送装置
05もろい,または損傷性材料または物品用のもの
07半導体ウェハーのためのもの
CPC
H01L 21/67196
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
67196characterized by the construction of the transfer chamber
H01L 21/67742
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
677for conveying, e.g. between different workstations
67739into and out of processing chamber
67742Mechanical parts of transfer devices
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 廣木勤 HIROKI, Tsutomu [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 廣木勤 HIROKI, Tsutomu
代理人
  • 佐々木聖孝 SASAKI, Seikoh
優先権情報
2008-32194218.12.2008JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VACUUM PROCESSING APPARATUS AND VACUUM TRANSFER APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT SOUS VIDE ET APPAREIL DE TRANSFERT SOUS VIDE
(JA) 真空処理装置及び真空搬送装置
要約
(EN)
Transfer performance in a cluster tool is improved without expanding the space at the bottom of the platform in the perpendicular direction. Within a platform (PF), a first transfer robot (16L) has: a transfer body (48L) which can slidably move on a left side guide rail (46L); a transfer base (50L) which can slidably move in the offset direction (X direction); and a slider-type transfer arm (52L) which can turn within a horizontal plane, which can move straight in a direction parallel to the radius of the turn, and which can support one semiconductor wafer (W).  A second transfer robot (16R) also has the same configuration and functions as the first transfer robot (16L), however, the transferring/moving directions of the respective sections are opposite those of the first transfer robot (16L).
(FR)
Il est possible d'améliorer les performances de transfert dans un outil de regroupement sans étendre l'espace dans la partie inférieure de la plate-forme dans la direction perpendiculaire. A l'intérieur d'une plate-forme (PF), un premier robot de transfert (16L) est équipé : d'un corps de transfert (48L) qui peut se déplacer de façon coulissante sur un rail de guidage du côté gauche (46L) ; d'une base de transfert (50L) qui peut se déplacer de façon coulissante dans la direction de décalage (direction X) ; et d'un bras de transfert de type à coulisseau (52L) qui peut tourner dans un plan horizontal, qui peut se déplacer dans une direction parallèle au rayon du tour, et qui peut supporter une plaquette semi-conductrice (W). Un second robot de transfert (16R) est également doté de la même configuration et des mêmes fonctions que le premier robot de transfert (16L), cependant, les directions de transfert/déplacement des parties respectives sont à l'opposé de celles du premier robot de transfert (16L).
(JA)
【課題】クラスタツールにおいてプラットフォームの縦方向スペースを下方に延ばすことなく搬送能力を向上させる。 【解決手段】プラットフォームPF内で、第1の搬送ロボット16Lは、左側ガイドレール46L上でスライド移動できる搬送本体48Lと、オフセット方向(X方向)でスライド移動できる搬送基台50Lと、水平面内で旋回移動できるとともに、旋回円の半径と平行な方向で直進移動でき、かつ1枚の半導体ウエハWを支持できるスライダ型の搬送アーム52Lとを有している。第2の搬送ロボット16Rも、各部の運動または移動の向きが左右対称である点を除いて第1の搬送ロボット16Lと同一の構成および機能を有している。
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