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1. WO2010061701 - 防食性フォトレジスト剥離剤組成物

公開番号 WO/2010/061701
公開日 03.06.2010
国際出願番号 PCT/JP2009/068185
国際出願日 22.10.2009
IPC
G03F 7/42 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
42剥離又はそのための処理剤
CPC
G03F 7/425
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
422using liquids only
425containing mineral alkaline compounds; containing organic basic compounds, e.g. quaternary ammonium compounds; containing heterocyclic basic compounds containing nitrogen
出願人
  • 出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 山崎 勇人 YAMASAKI, Hayato [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 藤岡 東洋藏 FUJIOKA, Toyozo [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 山崎 勇人 YAMASAKI, Hayato
  • 藤岡 東洋藏 FUJIOKA, Toyozo
代理人
  • 大谷 保 OHTANI, Tamotsu
優先権情報
2008-30517628.11.2008JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ANTI-CORROSIVE PHOTORESIST-REMOVING AGENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION D'AGENT DE RETRAIT DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ANTICORROSION
(JA) 防食性フォトレジスト剥離剤組成物
要約
(EN)
An anti-corrosive photoresist-removing agent composition, which contains a polar organic solvent (A), an organic amine compound (B) and an anti-corrosive agent (C) which is composed of a combination of an aromatic polyhydroxy compound and a saccharide.  The anti-corrosive photoresist-removing agent composition exhibits an excellent anti-corrosive effect on both copper and aluminum over a wide temperature range in the presence or absence of water.
(FR)
La présente invention concerne une composition de retrait de résine photosensible anticorrosion qui contient un solvant organique polaire (A), un composant organique aminé (B) et un agent anticorrosion (C) né de la combinaison d'un composé aromatique polyhydroxylé et d'un saccharide. Cette composition présente un excellent effet anticorrosion sur le cuivre et l'aluminium sur une grande plage de température en présence ou en l'absence d'eau.
(JA)
極性有機溶剤(A)、有機アミン化合物(B)並びに芳香族ポリヒドロキシ化合物及び糖類の組合せからなる防食剤(C)を含有する防食性フォトレジスト剥離剤組成物により、銅及びアルミニウムのいずれに対しても、幅広い温度域において、また、水の存在下及び不存在下のいずれにおいても、優れた防食効果を発現する防食性フォトレジスト剥離剤組成物を提供する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報