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1. (WO2010052961) 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/052961    国際出願番号:    PCT/JP2009/064104
国際公開日: 14.05.2010 国際出願日: 10.08.2009
IPC:
G02B 17/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOMATSUDA Hideki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOMATSUDA Hideki; (JP)
代理人: YAMAGUCHI Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
優先権情報:
2008-287356 10.11.2008 JP
発明の名称: (EN) IMAGING OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE D’IMAGERIE, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN DISPOSITIF
(JA) 結像光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a reflection optical system applicable to an exposure apparatus using, for instance, EUV rays, specifically a high-performance imaging optical system wherein the distance between a first reflection mirror and an object surface is relatively largely ensured on an axis and aberration is excellently corrected.  An imaging optical system (6) which forms an image formed on a first surface (4) on a second surface (7) is provided with a first reflection mirror (M1), a second reflection mirror (M2), a third reflection mirror (M3), a fourth reflection mirror (M4), a fifth reflection mirror (M5) and a sixth reflection mirror (M6) in the light incoming order.  The first reflection mirror is disposed closer to the second surface compared with the fourth reflection mirror, and the third reflection mirror is disposed closer to the second surface compared with the second reflection mirror.  The second reflection mirror and the third reflection mirror are disposed between a first defining surface which defines the reflection surface of the first reflection mirror and a fourth defining surface which defines the reflection surface of the fourth reflection mirror.  The entrance pupil of the imaging optical system is positioned on the opposite side to the imaging optical system with the first surface therebetween.
(FR)L’invention concerne un système optique de réflexion prévu pour un appareil d’exposition utilisant, par exemple, des rayons ultraviolets extrêmes, en particulier un système optique d’imagerie haute performance dans lequel la distance entre un premier miroir de réflexion et une surface d’objet est relativement importante sur un axe, et l’aberration est corrigée de manière optimale. Un système optique d’imagerie (6) qui forme une image générée sur une première surface (4) sur une seconde surface (7) est pourvu d’un premier miroir de réflexion (M1), d’un deuxième miroir de réflexion (M2), d’un troisième miroir de réflexion (M3), d’un quatrième miroir de réflexion (M4), d’un cinquième miroir de réflexion (M5) et d’un sixième miroir de réflexion (M6) dans l’ordre d’entrée de la lumière. Le premier miroir de réflexion est placé plus près de la seconde surface par rapport au quatrième miroir de réflexion, et le troisième miroir de réflexion est placé plus près de la seconde surface par rapport au deuxième miroir de réflexion. Ce deuxième miroir de réflexion et le troisième miroir de réflexion sont placés entre une première surface de définition qui définit la surface de réflexion du premier miroir de réflexion et une quatrième surface de définition qui définit la surface de réflexion du quatrième miroir de réflexion. La pupille d’entrée du système optique d’imagerie est placée du côté opposé au système optique d’imagerie, la première surface étant positionnée entre eux.
(JA) 例えばEUV光を用いる露光装置に適用可能な反射光学系であって、第1反射鏡と物体面との軸上間隔が比較的大きく確保され且つ収差が良好に補正された高性能な結像光学系。第1面(4)の像を第2面(7)上に形成する結像光学系(6)は、光の入射順に、第1反射鏡(M1)と第2反射鏡(M2)と第3反射鏡(M3)と第4反射鏡(M4)と第5反射鏡(M5)と第6反射鏡(M6)とを備えている。第1反射鏡は第4反射鏡よりも第2面側に配置され、第3反射鏡は第2反射鏡よりも第2面側に配置されている。第2反射鏡および第3反射鏡は、第1反射鏡の反射面を規定する第1規定面と第4反射鏡の反射面を規定する第4規定面との間に配置されている。結像光学系の入射瞳は、第1面を挟んで結像光学系の反対側に位置している。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)