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1. (WO2010050365) 暗視野検査装置校正用基準ウエハ、暗視野検査装置校正用基準ウエハの製造方法、暗視野検査装置の校正方法、暗視野検査装置およびウエハ検査方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/050365    国際出願番号:    PCT/JP2009/067837
国際公開日: 06.05.2010 国際出願日: 15.10.2009
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01), G01N 21/93 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 1-24-14, Nishi Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NEMOTO, Kazunori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HAMAMATSU, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OTA, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKA, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
JINGU, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NEMOTO, Kazunori; (JP).
HAMAMATSU, Akira; (JP).
OTA, Hideo; (JP).
OKA, Kenji; (JP).
JINGU, Takahiro; (JP)
代理人: TSUTSUI, Yamato; (JP)
優先権情報:
2008-281498 31.10.2008 JP
発明の名称: (EN) REFERENCE WAFER FOR CALIBRATING DARK-FIELD INSPECTION DEVICE, METHOD FOR FABRICATING REFERENCE WAFER FOR CALIBRATING DARK-FIELD INSPECTION DEVICE, METHOD FOR CALIBRATING DARK-FIELD INSPECTION DEVICE, DARK-FIELD INSPECTION DEVICE, AND WAFER INSPECTION METHOD
(FR) TRANCHE DE RÉFÉRENCE PERMETTANT DE CALIBRER UN DISPOSITIF D’INSPECTION DE FOND NOIR, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TRANCHE DE RÉFÉRENCE PERMETTANT DE CALIBRER UN DISPOSITIF D’INSPECTION DE FOND NOIR, PROCÉDÉ PERMETTANT DE CALIBRER UN DISPOSITIF D’INSPECTION DE FOND NOIR, DISPOSITIF D’INSPECTION DE FOND NOIR ET PROCÉDÉ D’INSPECTION DE TRANCHE
(JA) 暗視野検査装置校正用基準ウエハ、暗視野検査装置校正用基準ウエハの製造方法、暗視野検査装置の校正方法、暗視野検査装置およびウエハ検査方法
要約: front page image
(EN)Provided is a technique capable of guaranteeing the measurement result of a dark-field inspection device down to a micro-region.  A bulk wafer is used as a reference wafer to calibrate the dark-field inspection device, wherein the bulk wafer has a surface on which microroughness that is an irregular uneven pattern is precisely formed and the roughness of the microroughness on the surface is guaranteed.  The moicroroughness can be precisely formed by chemical processing with a chemical solution.  Such microroughness is measured using an AFM, and based on the measured value, an expected haze value is obtained.  Subsequently, the haze on the surface of the reference wafer is measured using the dark-field inspection device to be calibrated to obtain a measured haze value, and the difference between the expected haze value and the measured haze value is obtained.  Based on this difference, the haze measurement parameter of the dark-field inspection device is adjusted so that the measured haze value matches the expected haze value.
(FR)La présente invention a trait à une technique capable de garantir le résultat de mesure d’un dispositif d’inspection de fond noir jusque dans une microrégion. Une tranche ne présentant pas de couches minces est utilisée en tant que tranche de référence pour calibrer le dispositif d’inspection de fond noir. La tranche ne présentant pas de couches minces a une surface sur laquelle une microrugosité se présentant sous la forme d’un motif irrégulier est formée avec précision et la rugosité de la microrugosité sur la surface est garantie. La microrugosité peut être formée avec précision à l’aide d’un processus chimique au moyen d’une solution chimique. Cette microrugosité est mesurée à l’aide d’un microscope à force atomique (AFM) et, sur la base de la valeur mesurée, une valeur de turbidité attendue est obtenue. Par la suite, la turbidité sur la surface de la tranche de référence est mesurée à l’aide du dispositif d’inspection de fond noir devant être calibré en vue d’obtenir une valeur de turbidité mesurée, et il est possible d’obtenir la différence entre la valeur de turbidité attendue et la valeur de turbidité mesurée. Sur la base de cette différence, le paramètre de mesure de la turbidité du dispositif d’inspection de fond noir est ajusté de manière à ce que la valeur de turbidité mesurée corresponde à la valeur de turbidité attendue.
(JA) 暗視野検査装置の測定結果を微小領域まで保証できる技術を提供する。表面に不規則な凹凸パターンのマイクロラフネスが精度よく形成され、その表面のマイクロラフネスの粗さが保証されたバルクウエハを基準ウエハとして暗視野検査装置の校正を行う。マイクロラフネスは、薬液による化学処理により精度よく形成することができる。このようなマイクロラフネスをAFMを用いて測定し、測定値を基にヘイズ期待値を求める。その後、校正する暗視野検査装置で基準ウエハの表面のヘイズを測定してヘイズ実測値を求め、ヘイズ期待値とヘイズ実測値との差を求める。この差を基にヘイズ実測値がヘイズ期待値と合致するように暗視野検査装置のヘイズ測定パラメータを調整する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)