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1. (WO2010050189) 太陽電池の製造方法、エッチング装置及びCVD装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2010/050189    国際出願番号:    PCT/JP2009/005675
国際公開日: 06.05.2010 国際出願日: 27.10.2009
IPC:
H01L 31/18 (2006.01)
出願人: ULVAC, Inc. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP) (JP only).
TAKAHASHI, Hirohisa [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHIBASHI, Satoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UKISHIMA, Sadayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUBARA, Masahide [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKABE, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKAHASHI, Hirohisa; (JP).
ISHIBASHI, Satoru; (JP).
UKISHIMA, Sadayuki; (JP).
MATSUBARA, Masahide; (JP).
OKABE, Satoshi; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2008-278725 29.10.2008 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SOLAR CELL, ETCHING DEVICE, AND CVD DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE, DISPOSITIF DE GRAVURE ET DISPOSITIF CVD
(JA) 太陽電池の製造方法、エッチング装置及びCVD装置
要約: front page image
(EN)The solar cell manufacturing method is a method for manufacturing a solar cell in which a transparent conductive film made of ZnO is formed as a power extraction electrode on the light-incident side. The method has at least, in this order, step A in which a voltage is applied to sputter a target made of the material used to form the transparent conductive film and to form the transparent conductive film on a substrate, step B in which a texture is formed on the surface of the transparent conductive film, step C in which the surface of the transparent conductive film on which the texture is formed is washed using UV and ozone, and step D in which a power-generating layer is formed on the transparent conductive film.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication de cellule solaire qui est un procédé pour fabriquer une cellule solaire dans laquelle un film conducteur transparent fait de ZnO est formé en tant qu'électrode d'extraction de courant sur le côté d'incidence de lumière. Le procédé comprend au moins, dans cet ordre, une étape A au cours de laquelle une tension est appliquée pour pulvériser une cible faite du matériau utilisé pour former le film conducteur transparent et pour former le film conducteur transparent sur un substrat, une étape B au cours de laquelle une texture est formée sur la surface du film conducteur transparent, une étape C au cours de laquelle la surface du film conducteur transparent sur laquelle la texture est formée est lavée en utilisant un rayonnement ultraviolet et de l'ozone, et une étape D au cours de laquelle une couche de génération de courant est formée sur le film conducteur transparent.
(JA) 本発明に係る太陽電池の製造方法は、光入射側の電力取り出し電極として、ZnOの透明導電膜を成膜する太陽電池の製造方法であって、電圧を印加して、前記透明導電膜の成膜材料からなるターゲットをスパッタさせて、基板上に前記透明導電膜を成膜する工程Aと、前記透明導電膜の表面にテクスチャーを形成する工程Bと、前記テクスチャーが形成された前記透明導電膜の表面を、UV/オゾンを用いて洗浄する工程Cと、前記透明導電膜上に、発電層を形成する工程Dと、を少なくとも順に備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)